[發(fā)明專利]一種配向液的涂布方法及涂布裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610006420.X
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN105499091A
• 公開（公告）日: 2016-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡滕滕;任錦宇;周波;李俊杰;陳松飛
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: B05D1/32
• 分類號: B05D1/32;B05D3/12;B05C11/00
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;安利霞

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，特別是一種配向液的涂布方法及涂布裝置。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的配向液涂布方法主要包括有轉(zhuǎn)印(Roller)技術(shù)和噴墨(Inkjet)技 術(shù)等等。但使用這些涂布技術(shù)都不能保證配向液的邊緣與中心區(qū)域的厚度一致。 一般情況下，配向液邊緣會(huì)大于5000埃，而中心區(qū)域的厚度為400埃。

對于傳統(tǒng)的顯示器，陣列基板的非顯示區(qū)域上會(huì)設(shè)置信號線(例如數(shù)據(jù)線、 柵線等)的外接端點(diǎn)，該外接端點(diǎn)用于與外部的信號設(shè)備連接，如控制顯示的 IC芯片、用于檢測陣列基板良品率的檢測探針等，不能被配向液覆蓋掉，因 此目前配向液都只涂布在顯示區(qū)域上。而顯示區(qū)域的邊緣即對應(yīng)配向液的涂布 區(qū)域邊緣，由于該位置的配向液的厚度較大，從而對顯示畫面產(chǎn)生了一定影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種配向液的涂布方案，能夠使顯示區(qū)域的配向液具 有較高的均一性，從而不影響畫面顯示。

為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，一方面，本發(fā)明提供一種配向液的涂布方法，包括：

提供一基板，所述基板包括顯示區(qū)域和所述顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)；

對所述基板涂布配向液，所述配向液的涂布區(qū)域完全覆蓋所述顯示區(qū)域， 以及至少覆蓋所述顯示區(qū)域外圍的一部分非顯示區(qū)；

通過真空吸附，去除所述非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液。

可選地，所述顯示區(qū)域設(shè)置有信號線，所述非顯示區(qū)域設(shè)置有所述信號線 的外接端點(diǎn)；所述配向液的涂布區(qū)域包括外接端點(diǎn)所在區(qū)域；

通過真空吸附，去除所述非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液，包括：

通過真空吸附機(jī)構(gòu)，僅去除所述外接端點(diǎn)上的配向液。

可選地，所述真空吸附具機(jī)構(gòu)有一真空吸嘴，所述外接端點(diǎn)為多個(gè)；

通過真空吸附機(jī)構(gòu)，僅對所述外接端點(diǎn)的所在區(qū)域的配向液進(jìn)行真空吸附， 包括：

控制所述真空吸附機(jī)構(gòu)的真空吸嘴，按照所述外接端點(diǎn)的排列方向，對每 個(gè)外接端點(diǎn)的所在區(qū)域的配向液進(jìn)行真空吸附。

可選地，所述真空吸嘴的吸附寬度＝所述外接端點(diǎn)的寬度+配向液的擴(kuò)散 系數(shù)。

可選地，所述配向液的擴(kuò)散系數(shù)為0.8mm～3.2mm。

另一方面，本發(fā)明還提供一種配向液的涂布裝置，包括：

傳送機(jī)構(gòu)，用于將一基板傳送至涂布配向液的區(qū)域，所述基板包括顯示區(qū) 域和所述顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)；

涂布機(jī)構(gòu)，用于對所述基板涂布配向液，所述配向液的涂布區(qū)域完全覆蓋 所述顯示區(qū)域，以及至少覆蓋所述顯示區(qū)域外圍的一部分非顯示區(qū)；

真空吸附機(jī)構(gòu)，用于真空吸附基板上的配向液；

控制機(jī)構(gòu)，用于控制所述真空吸附機(jī)構(gòu)，通過真空吸附，去除所述非顯示 區(qū)域上的至少一部分配向液。

可選地，所述顯示區(qū)域設(shè)置有信號線，所述非顯示區(qū)域設(shè)置有所述信號線 的外接端點(diǎn)，所述配向液的涂布區(qū)域包括外接端點(diǎn)所在區(qū)域；

控制機(jī)構(gòu)控制所述真空吸附機(jī)構(gòu)僅去除所述外接端點(diǎn)上的配向液。

可選地，所述外接端點(diǎn)為多個(gè)，所述真空吸附機(jī)構(gòu)具有一真空吸嘴；

所述控制機(jī)構(gòu)具體控制所述真空吸附機(jī)構(gòu)的真空吸嘴，按照所述外接端點(diǎn) 的排列方向，對每個(gè)外接端點(diǎn)的所在區(qū)域的配向液進(jìn)行真空吸附。

可選地，所述真空吸嘴的吸附寬度＝所述外接端點(diǎn)的寬度+配向液的擴(kuò)散 系數(shù)。

可選地，所述配向液的擴(kuò)散系數(shù)為0.8mm～3.2mm。

可選地，所述真空吸嘴的開口為矩形；

所述真空吸嘴的吸附力Y＝A/(1+d+w)≥≥ρg*[w＇*l*t]；

其中，A為真空吸嘴固有吸力；d為由真空吸嘴與配向液之間的間距決定 的系數(shù)；w為由真空吸嘴的開口寬度決定系數(shù)；ρ為配向液密度；g為重力常 數(shù)；w＇為真空吸嘴的吸附寬度；l為真空吸嘴的開口長度；t為配向液厚度。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明增大了配向液的涂配區(qū)域，使得涂布后的配向液的 邊緣處移到了非顯示區(qū)域上，對于非顯示區(qū)域原本不能被配向液覆蓋但已經(jīng)涂 有配向液的位置，則進(jìn)一步通過真空吸附的方式進(jìn)行去除，從而使顯示區(qū)域的 配向液的均一性得到了保證。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的涂布方法的步驟示意圖；