[發明專利]一種無模板電沉積SmCo納米線的制備方法在審
| 申請號: | 201610006127.3 | 申請日: | 2016-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN105648477A | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 李冰;陳宇琦;陳剛;施宇康 | 申請(專利權)人: | 華東理工大學 |
| 主分類號: | C25C5/02 | 分類號: | C25C5/02;C25C7/02;B22F1/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 上海順華專利代理有限責任公司 31203 | 代理人: | 李鴻儒 |
| 地址: | 200237 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 模板 沉積 smco 納米 制備 方法 | ||
1.一種無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于,具體步驟如下:
A、采用三電極體系,以鎢、鉬、鐵、貴金屬鉑或金做工作電極,鈷片或 者石墨作為對電極,Co2+/Co電極為參比電極,其組成為鈷絲浸入含有 40:60mol%CoCl2-EMIC離子液體的多孔玻璃管內;工作電極在使用之前,需 要用各級砂紙打磨到鏡面,采用2M硝酸溶液超聲清洗去除氧化膜,之后采用 去離子水清洗電極后烘干;所有電極在丙酮中超聲清洗去除有機物;
B、離子液體的配制:在氬氣氣氛中的手套箱中,向1-乙基-3-甲基氯化咪 唑,即EMIC中加入SmCl3和CoCl2,加熱攪拌,得到混合均勻的藍色新離子 液體SmCl3-CoCl2-EMIC,SmCl3的摩爾百分比為1.00-6.00%,CoCl2的摩爾百 分比為30.00-60.00%,EMIC的摩爾百分比為34.00-69.00%;
C、在步驟B中的SmCl3-CoCl2-EMIC離子液體中進行恒電位沉積,沉積 電位-0.4V~-1.0V,時間100s~5000s,溫度范圍為70~150℃;
D、電沉積結束后,對步驟C中的工作電極先用乙腈清洗三次,洗掉離子 液體,再用丙酮清洗去除乙腈溶液,晾干得到固體產物;
E、干燥:烘干步驟D中洗滌得到的固體產物,即為SmCo納米線;
F、磁性能測試,對納米線進行磁滯曲線測試,具有明顯的磁各向異性。
2.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 所述的SmCo納米線呈黑色,直徑在50~100nm,長度在5μm~30μm。
3.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 所述的步驟A中工作電極為鎢片,對電極為鈷片。
4.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 步驟B中配制SmCl3-CoCl2-EMIC離子液體時,常溫下稱取,混合均勻,逐步 升溫,在120℃下保溫2h除去水分。
5.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 步驟A中所述的電極純度為99.0%。
6.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 步驟A中所述的參比電極內離子液體與外界離子液體成分相近,能夠保持穩定 的參比電極電位。
7.根據權利要求1所述的無模板電沉積SmCo納米線的方法,其特征在于, 步驟B中所述的手套箱內,O2<1ppm,H2O<1ppm。
8.一種采用權利要求1-7任一所述的方法制備得到的SmCo納米線,所述 的SmCo納米線呈黑色,直徑在50~100nm,長度在5μm~30μm。
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