[發明專利]掩膜版安裝框架和利用掩膜版安裝框架固定掩膜版的方法在審
| 申請號： | 201610005579.X | 申請日： | 2016-01-04 |
| 公開（公告）號： | CN105607412A | 公開（公告）日： | 2016-05-25 |
| 發明（設計）人： | 馬群;皇甫魯江;閔天圭;嵇鳳麗 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩膜版 安裝 框架 利用 固定 方法 | ||
1.一種掩膜版安裝框架，其特征在于，包括框架本體和設置在 所述框架本體的第一側邊上的拉伸單元，所述拉伸單元包括用于連接 掩膜版的滑塊及使所述滑塊沿垂直于所述第一側邊的方向滑動的導 向機構，所述第一側邊為用于固定所述掩膜版的側邊。
2.根據權利要求1所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，還包括 設置在所述框架本體的第二側邊上的拉伸單元，所述第二側邊與所述 第一側邊平行，所述第二側邊上的拉伸單元與所述第一側邊上的拉伸 單元位置相對。
3.根據權利要求1或2所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，設 置在每一側邊上的所述拉伸單元的數量為多個。
4.根據權利要求1所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述導 向機構包括安裝在所述框架本體上的導軌。
5.根據權利要求1所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述滑 塊為金屬材質，適于與所述掩膜版焊接。
6.根據權利要求1所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述拉 伸單元還包括設置在所述滑塊上的固定件，所述固定件適于將所述掩 膜版固定至所述滑塊上。
7.根據權利要求1所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述拉 伸單元還包括驅動機構，所述驅動機構適于驅動所述滑塊滑動。
8.根據權利要求7所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述驅 動機構包括絲杠及與所述絲杠連接的旋轉手柄。
9.根據權利要求7所述的掩膜版安裝框架，其特征在于，所述驅 動機構包括絲杠及與所述絲杠傳動連接的伺服電機。
10.一種利用權利要求1-9任一所述掩膜版安裝框架固定掩膜版 的方法，其特征在于，包括：
在安裝過程中，將所述掩膜版的一端固定至所述第一側邊的拉伸 單元中的滑塊，滑動所述滑塊，使所述掩膜版繃緊。
11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，還包括：
在使用過程中，當所述掩膜版松弛時，滑動所述滑塊，使所述掩 膜版繃緊。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
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