[發明專利]透明導電薄膜、基板、觸控屏及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201610003470.2
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN105551581A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 楊成紹;操彬彬;黃寅虎;鄒志翔
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;G06F3/041
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 黃燦;張博

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是指一種透明導電薄膜、基板、觸控屏及其制作方 法、顯示裝置。

背景技術

隨著觸控屏行業的發展，基于市場需求，觸控屏越來越趨向于無邊框。

目前，觸控屏四周的邊框一般采用金屬來制作信號傳輸線，金屬走線具有導通性 好、線寬窄、電阻低的特性，可以滿足窄邊框的需求。但由于金屬的不透明性，利用金屬走線 來制作信號傳輸線不可能實現觸控屏的無邊框；另外，雖然ITO等透明導電薄膜具有較高的 可見光透過率，但其電阻率較大，因此，也無法利用ITO等透明導電材料來制作觸控屏的信 號傳輸線。

綜上所述，目前只能實現觸控屏的窄邊框，對于手機觸控屏來說，邊框的寬度可以 控制在2-3mm；對于TPC(TouchPC，觸控個人電腦)/NB(Notebook，筆記本)觸控屏來說，邊框 的寬度可以控制在5mm左右；對于MNT(專業顯示器)觸控屏來說，邊框的寬度可以控制在 10mm左右。但目前尚無技術能夠實現觸控屏的無邊框。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種透明導電薄膜、基板、觸控屏及其制作方法、 顯示裝置，能夠實現觸控屏的無邊框。

為解決上述技術問題，本發明的實施例提供技術方案如下：

一方面，提供一種透明導電薄膜，其特征在于，所述透明導電薄膜包括層疊設置的 第一金屬氧化物層、金屬層和第二金屬氧化物層。

進一步地，所述透明導電薄膜包括依次層疊的第一銦鎵鋅氧化物層、第一錳氧化 物層、金屬層、第二錳氧化物層和第二銦鎵鋅氧化物層。

進一步地，所述金屬層為采用銅或銀。

進一步地，在所述金屬層采用銅時，所述第一銦鎵鋅氧化物層的厚度為45nm- 50nm，所述第二銦鎵鋅氧化物層的厚度為30nm-35nm，所述金屬層的厚度為10nm-15nm，所述 第一錳氧化物層和所述第二錳氧化物層的厚度均為3nm-5nm。

本發明實施例還提供了一種基板，包括形成在襯底基板上的多個信號傳輸線，所 述信號傳輸線為采用上述的透明導電薄膜制成。

本發明實施例還提供了一種觸控屏，包括如上所述的基板，所述信號傳輸線為與 所述觸控屏的觸控電極連接的觸控信號傳輸線。

進一步地，所述觸控電極為采用所述透明導電薄膜制成。

本發明實施例還提供了一種顯示裝置，包括如上所述的觸控屏。

本發明實施例還提供了一種觸控屏的制作方法，包括：

提供一襯底基板；

在所述襯底基板上形成消影層；

在所述消影層上形成觸控電極；

在形成有所述觸控電極的襯底基板上形成第一平坦層；

在所述第一平坦層上利用上述透明導電薄膜形成與所述觸控電極連接的觸控信 號傳輸線。

進一步地，形成所述觸控電極具體為：

在所述消影層上利用所述透明導電薄膜形成所述觸控電極。

進一步地，形成所述觸控信號傳輸線之后，所述方法還包括：

在形成有所述觸控信號傳輸線的襯底基板上形成第二平坦層。

本發明的實施例具有以下有益效果：

上述方案中，基板的信號傳輸線為采用透明導電薄膜制成，透明導電薄膜由層疊 設置的金屬氧化物層、金屬層和金屬氧化物層組成，使得透明導電薄膜既透明且導電性能 不弱于金屬，利用該透明導電薄膜制作信號傳輸線，既能滿足電阻率要求，又不會影響透過 率。

附圖說明

圖1為現有陣列基板的結構示意圖；

圖2為現有陣列基板的制作流程示意圖；

圖3為本發明實施例透明導電薄膜的結構示意圖；

圖4為本發明實施例陣列基板的結構示意圖；

圖5為本發明實施例陣列基板的制作流程示意圖。

附圖標記

1、5銦鎵鋅氧化物層2、4錳氧化物層3銅金屬層

100襯底基板101黑矩陣102消影層103T發射電極

103R接收電極104第一平坦層105觸控信號傳輸線

106第二平坦層

具體實施方式

為使本發明的實施例要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合 附圖及具體實施例進行詳細描述。