[發明專利]一種降低基于DMPO的IMRT規劃中的局部熱/冷點的方法、裝置、系統和介質

有效

• 申請號: 201580075842.6
• 申請日: 2015-12-04
• 公開（公告）號: CN107223066B
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: V·蘭加納坦;G·喬安托;P·庫馬爾
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李光穎;王英

1.一種借助于輻射分配器(LINAC)調節要暴露于輻射的對象中的劑量分布的第一規范的方法，所述第一規范是基于第一目標函數計算的，所述第一目標函數依據針對所述輻射分配器的機器設置來定義針對對象中的至少一個相應位置的第一劑量要求，所述方法包括以下步驟：

基于所述第一規范來識別(S210)至少一個位置，針對所述至少一個位置，相對于閾值，依據所述第一目標函數的相應劑量要求不被滿足；

接收(S220)針對所識別的至少一個位置的新劑量要求；

定義包括所述第一目標函數和第二擴展的目標函數的雙目標函數，所述第二擴展的目標函數除所述第一劑量要求之外還包括針對所識別的至少一個位置的所述新劑量要求；

基于所述雙目標函數來計算(S250)第二規范。

2.根據權利要求1所述的方法，包括以下步驟：

將所述機器設置分類(S240)到兩個組中，即分類到關鍵組和正常組中，其中，能夠與所述所識別的至少一個位置相關聯的機器設置被分類到所述關鍵組中，而在依據所述第一目標函數的所述相應劑量要求被滿足的情況下，能夠與不同于所識別的至少一個位置的位置相關聯的機器設置被分類到所述正常組中。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述正常組(NSG)中比所述關鍵組(CSG)中多至少一個機器設置。

4.根據權利要求2-3中的任一項所述的方法，其中，所述第一目標函數被限制于機器設置的所述正常組，并且其中，所述第二擴展的目標函數被限制于機器設置的所述關鍵組。

5.根據權利要求1-3中的任一項所述的方法，其中，所述第二擴展的目標函數包括至少一個用戶可調節權重因子，以對所述第一目標函數對所述第二擴展的目標函數的貢獻進行加權。

6.根據權利要求1-3中的任一項所述的方法，包括在顯示設備(MT)上顯示(S260)所述第一目標函數和/或所述第二擴展的目標函數的相應的值。

7.一種用于借助于輻射分配器調節要暴露于輻射的對象中的劑量分布的第一規范的裝置(TPA)，其中，所述第一規范是基于第一目標函數計算的，所述第一目標函數依據針對所述輻射分配器的機器設置來定義針對對象中的至少一個相應位置的第一劑量要求，所述裝置包括：

輸入端口(IN)，其被配置為接收所述第一規范；

位置標識符(LI)模塊，其被配置為基于所述第一規范來識別至少一個位置，針對所述至少一個位置，相對于閾值，依據所述第一目標函數的相應劑量要求不被滿足；

劑量輸入端口(D-IN)，其被配置為接收針對所識別的至少一個位置的新劑量要求；

計劃重新調節器模塊(PRM)，其被配置為基于雙目標函數計算第二規范，所述雙目標函數包括所述第一目標函數和第二擴展的目標函數，所述第二擴展的目標函數除了所述第一劑量要求之外還包括針對所識別的至少一個位置的所述新劑量要求。

8.根據權利要求7所述的裝置(TPA)，包括：

分類器(CL)，其被配置為將所述機器設置分類到兩個組中，即分類到關鍵組和正常組中，其中，能夠與所述所識別的至少一個位置相關聯的機器設置被分類到所述關鍵組中，而在依據所述第一目標函數的所述相應劑量要求被滿足的情況下，能夠與不同于所識別的至少一個位置的位置相關聯的機器設置被分類到所述正常組中。

9.根據權利要求7或8中的任一項所述的裝置，包括可視化器(VIS)，所述可視化器被配置為在顯示設備(MT)上實現對所述第一目標函數和/或所述第二擴展的目標函數的相應的值的顯示。