[發明專利]流體噴射裝置

有效

• 申請號: 201580075016.1
• 申請日: 2015-04-30
• 公開（公告）號: CN107206789B
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發明（設計）人: A·戈夫亞迪諾夫;T·亞馬施塔;E·D·托爾尼埃寧
• 申請（專利權）人: 惠普發展公司;有限責任合伙企業
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 董均華;安文森<國際申請>=PCT/US

1.一種流體噴射系統，所述流體噴射系統包括流體噴射裝置的陣列和共用的流體進給槽，每個流體噴射裝置包含：

與所述共用的流體進給槽連通且包括第一液滴噴射元件的第一流體噴射室；

包括第二液滴噴射元件的第二流體噴射室；和

流體循環路徑，包括與所述共用的流體進給槽和所述第二流體噴射室連通的第一部分、和與所述第二流體噴射室和所述第一流體噴射室連通的第二部分，

所述流體循環路徑包括在所述第一部分內的流體循環元件，

其中，對于所述流體噴射裝置的陣列而言，所述流體噴射裝置沿著所述共用的流體進給槽的長度均勻布置或彼此等距離地隔開，并且所述共用的流體進給槽與各個流體噴射裝置的相應的、分開的流體循環路徑和第一流體噴射室及第二流體噴射室連通。

2.如權利要求1所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑的第一部分使流體在第一方向循環，并且所述流體循環路徑的第二部分使流體在與所述第一方向相反的第二方向循環。

3.如權利要求2所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑的第一部分使流體在所述第一方向和所述第二方向循環。

4.如權利要求2所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑的第二部分使流體在所述第一方向和所述第二方向循環。

5.如權利要求1所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑的第一部分包括通道環路。

6.如權利要求1所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑的第二部分包括通道環路。

7.一種流體噴射系統，所述流體噴射系統包括流體噴射裝置的陣列和共用的流體進給槽，每個流體噴射裝置包含：

與所述共用的流體進給槽連通的第一流體噴射室；

在所述第一流體噴射室內的第一液滴噴射元件；

在第一端部處與所述共用的流體進給槽連通且在第二端部處與所述第一流體噴射室連通的流體循環路徑；

在所述流體循環路徑內的流體循環元件；

在所述流體循環路徑中的第二流體噴射室；和

在所述第二流體噴射室內的第二液滴噴射元件；

其中，對于所述流體噴射裝置的陣列而言，所述流體噴射裝置沿著所述共用的流體進給槽的長度均勻布置或彼此等距離地隔開，并且所述共用的流體進給槽與各個流體噴射裝置的相應的、分開的流體循環路徑和第一流體噴射室及第二流體噴射室連通。

8.如權利要求7所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑使流體在第一方向在所述流體循環元件與所述第二流體噴射室之間循環，并且所述流體循環路徑使流體在與所述第一方向相反的第二方向在所述第二流體噴射室與所述第一流體噴射室之間循環。

9.如權利要求8所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑使流體在所述第一方向和所述第二方向在所述流體循環元件與所述第二流體噴射室之間循環。

10.如權利要求8所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑使流體在所述第一方向和所述第二方向在所述第二流體噴射室與所述第一流體噴射室之間循環。

11.如權利要求7所述的流體噴射系統，其中，所述流體循環路徑包括在所述共用的流體進給槽與所述第二流體噴射室之間延伸的第一部分、和在所述第二流體噴射室與所述第一流體噴射室之間延伸的第二部分。

12.如權利要求7所述的流體噴射系統，進一步包含：

在所述第一流體噴射室與所述第二流體噴射室之間的流體循環路徑內的顆粒耐受構造。