[發(fā)明專利]周邊曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580074910.7
• 申請(qǐng)日: 2015-01-28
• 公開（公告）號(hào): CN107210198B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 武田直幸;久我正一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/027
• 分類號(hào): H01L21/027
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 何立波;張?zhí)焓?/td>

1.一種周邊曝光裝置，其用于對(duì)半導(dǎo)體基板的臺(tái)階部即外周部進(jìn)行曝光，

該周邊曝光裝置具有：

光源，其設(shè)置為能夠?qū)λ鐾庵懿空丈涔猓灰约?/p>

反射鏡，其具有反射面，該反射面配置為沿與從所述光源照射的所述光的光軸交叉的方向進(jìn)行延伸，

所述反射鏡設(shè)置為在對(duì)所述半導(dǎo)體基板的所述外周部進(jìn)行曝光時(shí)，在所述半導(dǎo)體基板的徑向上位于所述半導(dǎo)體基板的中心與所述外周部之間，并且所述反射鏡設(shè)置為對(duì)所述外周部的內(nèi)周側(cè)的內(nèi)周端面照射由所述反射面反射的反射光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的周邊曝光裝置，其中，

還具有檢測(cè)部，該檢測(cè)部能夠?qū)λ龇瓷溏R與所述半導(dǎo)體基板之間的距離進(jìn)行檢測(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的周邊曝光裝置，其中，

還具有反射鏡支撐臺(tái)，該反射鏡支撐臺(tái)能夠?qū)λ龇瓷溏R進(jìn)行支撐，

所述反射鏡支撐臺(tái)具有反射鏡可動(dòng)部，該反射鏡可動(dòng)部能夠變更所述反射面相對(duì)于所述光的所述光軸的角度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的周邊曝光裝置，其中，

所述檢測(cè)部與所述反射鏡支撐臺(tái)的下表面配置于同一面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的周邊曝光裝置，其中，

所述檢測(cè)部與所述反射鏡支撐臺(tái)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的周邊曝光裝置，其中，

所述光源和所述反射鏡支撐臺(tái)設(shè)置為能夠作為一體而相對(duì)于所述半導(dǎo)體基板進(jìn)行移動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的周邊曝光裝置，其中，

所述檢測(cè)部包含第1傳感器，該第1傳感器能夠?qū)λ龇瓷溏R與所述半導(dǎo)體基板處由所述外周部包圍的內(nèi)周部之間的在所述半導(dǎo)體基板的厚度方向上的距離進(jìn)行檢測(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的周邊曝光裝置，其中，

所述檢測(cè)部包含第2傳感器，該第2傳感器能夠?qū)λ龇瓷溏R與所述外周部之間的在所述半導(dǎo)體基板的徑向上的距離進(jìn)行檢測(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的周邊曝光裝置，其中，

還具有基板支撐臺(tái)，該基板支撐臺(tái)將所述半導(dǎo)體基板可旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行支撐。