[發明專利]水處理裝置以及水處理方法有效
| 申請號: | 201580073985.3 | 申請日: | 2015-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN107207291B | 公開(公告)日: | 2018-10-02 |
| 發明(設計)人: | 生沼學;稻永康隆 | 申請(專利權)人: | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/48 | 分類號: | C02F1/48;C02F1/78 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 肖靖 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水處理 裝置 以及 方法 | ||
1.一種水處理裝置,具備:
中心電極,長度方向被設置成鉛垂方向;以及
外周電極,設置成軸與所述中心電極相同,并包圍所述中心電極,
通過在所述中心電極與所述外周電極之間施加高電壓,在所述中心電極與所述外周電極之間的放電空間形成放電,并且通過使被處理水以水滴狀或者水膜狀從所述放電空間的上方供給到所述放電空間內,處理所述被處理水,
其中,所述水處理裝置還具備再水滴化部,該再水滴化部與所述外周電極連接,
所述再水滴化部將在所述放電空間內落下的所述被處理水的一部分捕捉作為捕集水,使捕捉到的所述捕集水和經由氣體配管供給的含氧氣體混合,從而進行再水滴化,將通過再水滴化形成的水滴噴出到所述放電空間。
2.根據權利要求1所述的水處理裝置,其中,還具備:
水處理反應器,構成為包括所述中心電極、所述外周電極以及設置于所述外周電極的下方且積存在所述放電空間內落下的處理后的所述被處理水的存水部;以及
吸氣部,從所述水處理反應器吸出所述含氧氣體,經由氣體配管供給到所述再水滴化部。
3.根據權利要求2所述的水處理裝置,其中,
用于從所述水處理反應器吸出所述含氧氣體的吸氣口設置于比所述再水滴化部更上部的所述外周電極。
4.根據權利要求2所述的水處理裝置,其中,
具備將構成為包括一對所述中心電極和所述外周電極、以及一個以上的所述再水滴化部的放電管并聯地連接而成的多個放電管,
所述多個放電管與所述存水部密封連接,
用于從所述水處理反應器吸出所述含氧氣體的吸氣口設置于所述存水部,
與所述多個放電管對應的再水滴化部分別通過使由所述吸氣部經由所述吸氣口以及所述氣體配管供給的所述含氧氣體、和捕捉到的所述被處理水混合來進行再水滴化,將通過再水滴化形成的水滴噴出到所述放電空間。
5.根據權利要求1至4中的任意一項所述的水處理裝置,其中,
所述再水滴化部將通過所述再水滴化形成的所述水滴在相對所述鉛垂方向傾斜的方向上噴出到所述放電空間。
6.根據權利要求1至4中的任意一項所述的水處理裝置,其中,
所述再水滴化部具有:
捕捉部件,沿著所述外周電極的內表面設置;以及
氣體流路,沿著所述外周電極的外表面設置,
所述外周電極形成有與所述氣體流路相連的貫通孔,
所述再水滴化部利用所述捕捉部件將在所述放電空間內落下的所述被處理水的一部分捕捉作為所述捕集水,將經由所述氣體配管供給的所述含氧氣體經由所述氣體流路和所述貫通孔供給到所述放電空間,使所述捕集水和所述含氧氣體混合,從而進行所述再水滴化。
7.根據權利要求6所述的水處理裝置,其中,
所述捕捉部件具有:
收集部,收集所述捕集水;以及
水流路,從所述收集部向下方伸長,
所述再水滴化部在所述水流路和所述氣體流路交叉的交叉部處使所述捕集水和所述含氧氣體混合,從而進行所述再水滴化。
8.根據權利要求7所述的水處理裝置,其中,
所述氣體流路在所述交叉部處剖面積最小。
9.根據權利要求6所述的水處理裝置,其中,
通過在所述鉛垂方向上連接多個單元電極,形成所述外周電極和所述再水滴化部,
該單元電極構成為具有:
圓筒形狀的圓筒管部;
連結部,設置于所述圓筒管部的兩端;
所述捕捉部件,安裝于所述圓筒管部的內表面;以及
所述氣體配管,安裝于所述圓筒管部的外表面。
10.一種應用于水處理裝置的水處理方法,所述水處理裝置具備:
中心電極,長度方向被設置成鉛垂方向;以及
外周電極,設置成軸與所述中心電極相同,并包圍所述中心電極,
通過在所述中心電極與所述外周電極之間施加高電壓,在所述中心電極與所述外周電極之間的放電空間形成放電,并且通過使被處理水以水滴狀或者水膜狀從所述放電空間的上方供給到所述放電空間內,處理所述被處理水,其中,
在與所述外周電極連接的再水滴化部中,具有:
將在所述放電空間內落下的所述被處理水的一部分捕捉作為捕集水的工序;
通過使捕捉到的所述捕集水和經由氣體配管供給的含氧氣體混合來進行再水滴化的工序;以及
將通過所述再水滴化形成的水滴噴出到所述放電空間的工序。
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