[發(fā)明專利]用于中心到端部的纖維氧化爐的排放噴嘴板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580071351.4 | 申請(qǐng)日： | 2015-11-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107429441B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-04-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 漢斯·L·梅爾高德;丹尼爾·M·魯夫;馬修·本森;菲利普·烏 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 迪斯派奇工業(yè)有限合伙公司 |
| 主分類號(hào)： | D02J13/00 | 分類號(hào)： | D02J13/00;D01F9/32 |
| 代理公司： | 上海脫穎律師事務(wù)所 31259 | 代理人： | 脫穎 |
| 地址： | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 中心 到端部 纖維 氧化 排放 噴嘴 | ||
1.一種用于加熱纖維的爐，所述爐包括：
供應(yīng)結(jié)構(gòu)，所述供應(yīng)結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述爐內(nèi)并在所述爐的第一端部和第二端部之間，所述供應(yīng)結(jié)構(gòu)包括彼此上下堆疊的多個(gè)氣室，在所述多個(gè)氣室之間具有間隙，其中所述氣室與加熱系統(tǒng)流體連通；
其中至少一個(gè)氣室包括至少一個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁包括在其中形成的多個(gè)通路，所述至少一個(gè)氣室經(jīng)配置將加熱的氣體的至少一部分從所述多個(gè)通路引導(dǎo)到所述爐的內(nèi)部中；并且
其中在所述至少一個(gè)側(cè)壁中形成的所述多個(gè)通路中的每個(gè)通路包括所述通路的不同的入口開(kāi)口和不同的出口開(kāi)口，并且所述多個(gè)通路中的每個(gè)通路在所述通路的所述入口開(kāi)口和所述出口開(kāi)口之間為錐形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中對(duì)于所述多個(gè)通路中的至少一個(gè)通路，相應(yīng)的入口開(kāi)口大于相應(yīng)的出口開(kāi)口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中在所述至少一個(gè)氣室的所述至少一個(gè)側(cè)壁中形成的所述多個(gè)通路中的至少一個(gè)通路包括從相應(yīng)的入口開(kāi)口延伸的錐形區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的爐，其中包括所述錐形區(qū)域的所述多個(gè)通路中的所述至少一個(gè)通路進(jìn)一步包括：沿著所述相應(yīng)的入口開(kāi)口的彎曲或傾斜的邊緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中在所述至少一個(gè)氣室的所述至少一個(gè)側(cè)壁中形成的所述多個(gè)通路中的至少一個(gè)通路包括：從相應(yīng)的入口開(kāi)口延伸的錐形區(qū)域，以及從所述錐形區(qū)域的端部延伸到相應(yīng)的出口開(kāi)口的筆直區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中在所述至少一個(gè)氣室的外表面上不安置蜂窩材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中所述至少一個(gè)側(cè)壁為至少0.25英寸厚。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的爐，其中在所述至少一個(gè)側(cè)壁中形成的所述多個(gè)通路中的每一個(gè)通路在所述通路的所述入口開(kāi)口和所述出口開(kāi)口之間為錐形。
9.一種使用爐加熱纖維的方法，所述方法包括：
將加熱的氣體供應(yīng)到設(shè)置在所述爐的內(nèi)部?jī)?nèi)的供應(yīng)結(jié)構(gòu)，所述供應(yīng)結(jié)構(gòu)包括彼此上下堆疊的多個(gè)氣室，在所述多個(gè)氣室之間具有間隙；以及
將所述加熱的氣體的至少一部分從形成在至少一個(gè)氣室的至少一個(gè)側(cè)壁中的通路引導(dǎo)到所述爐的所述內(nèi)部中，所述通路在所述通路的相應(yīng)的入口開(kāi)口和相應(yīng)的出口開(kāi)口之間為錐形。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述通路中的每一個(gè)通路包括單個(gè)入口開(kāi)口，所述單個(gè)入口開(kāi)口與單個(gè)出口開(kāi)口相對(duì)應(yīng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中將所述加熱的氣體的至少一部分從所述通路引導(dǎo)到所述爐的所述內(nèi)部中包括：
將所述加熱的氣體的至少一部分引導(dǎo)到所述通路的所述入口開(kāi)口中；以及
將所述加熱的氣體的至少一部分從所述通路的所述出口開(kāi)口引導(dǎo)到所述爐的所述內(nèi)部中。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中對(duì)于所述通路中的至少一個(gè)通路，所述相應(yīng)的入口開(kāi)口大于所述相應(yīng)的出口開(kāi)口。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述通路中的至少一個(gè)通路包括：從所述相應(yīng)的入口開(kāi)口延伸的錐形區(qū)域，以及從所述錐形區(qū)域的端部延伸到所述相應(yīng)的出口開(kāi)口的筆直區(qū)域。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述加熱的氣體的至少一部分引導(dǎo)到所述通路的所述入口開(kāi)口中包括：
沿著彎曲或傾斜的邊緣引導(dǎo)所述加熱的氣體的至少一部分，所述彎曲或傾斜的邊緣沿著所述通路的所述入口開(kāi)口形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中將所述加熱的氣體的至少一部分引導(dǎo)到所述通路的所述入口開(kāi)口中包括：
將所述加熱的氣體的至少一部分引導(dǎo)到所述通路的所述錐形區(qū)域中。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于迪斯派奇工業(yè)有限合伙公司，未經(jīng)迪斯派奇工業(yè)有限合伙公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580071351.4/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
