[發明專利]集成分析器件陣列

有效

• 申請號: 201580058653.8
• 申請日: 2015-08-26
• 公開（公告）號: CN107003241B
• 公開（公告）日: 2022-01-11
• 發明（設計）人: 安妮特·格羅特;拉維·薩克塞納;保羅·倫德奎斯特
• 申請（專利權）人: 加利福尼亞太平洋生物科學股份有限公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N21/77
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 顧麗波;李榮勝

1.一種集成分析器件陣列，每個器件包括：

納米級發射體；

檢測器層，其光學地耦接到所述納米級發射體；

衍射光束成形元件，其設置在所述納米級發射體和所述檢測器層之間；

濾色層，其設置在所述衍射光束成形元件和所述檢測器層之間；

激發源，其光學地耦接至所述納米級發射體；以及

至少一個孔隙層，其設置在所述激發源和所述檢測器層之間；

其中，通過所述發射體內的多個發射物從該納米級發射體發射光；

其中，所述檢測器層包括多個感測區域；并且

其中，所述衍射光束成形元件在進行分色之前在空間上分離從所述納米級發射體發射的光，并且將空間上分離的光引導穿過所述濾色層從而到達所述多個感測區域。

2.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述衍射光束成形元件是混合透鏡。

3.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述衍射光束成形元件包括菲涅爾透鏡。

4.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述衍射光束成形元件包括非晶硅。

5.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述濾色層包括多個濾色元件，每個濾色元件光學地耦接到一個檢測器層感測區域，并且專用于一定范圍的光波長。

6.根據權利要求5所述的陣列，其中，所述濾色元件是雙色向濾光器。

7.根據權利要求5所述的陣列，其中，所述濾色元件是薄膜干涉濾光器。

8.根據權利要求5所述的陣列，其中，所述濾色元件包括非晶硅和氧化硅。

9.根據權利要求5所述的陣列，其中，所述濾色元件是吸收濾光器。

10.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述孔隙層設置在所述激發源和所述衍射光束成形元件之間。

11.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述孔隙層設置在所述衍射光束成形元件和所述檢測器層之間。

12.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述孔隙層包括氮化鈦。

13.根據權利要求1所述的陣列，包括設置在所述激發源和所述檢測器層之間的至少兩個孔隙層。

14.根據權利要求13所述的陣列，包括設置在所述激發源和所述檢測器層之間的至少三個孔隙層。

15.根據權利要求1所述的陣列，還包括：

激光抑制濾光層，其設置在所述激發源和所述檢測器層之間。

16.根據權利要求15所述的陣列，其中，所述激光抑制濾光層設置在所述濾色層和所述檢測器層之間。

17.根據權利要求1所述的陣列，其中，所述檢測器層包括兩個感測區域。

18.根據權利要求17所述的陣列，其中，所述激發源是波導激發源，所述波導激發源光學地耦接到所述納米級發射體。

19.根據權利要求18所述的陣列，其中，所述納米級發射體在所述波導激發源上方直接對準。

20.根據權利要求19所述的陣列，其中，所述感測區域相對于所述波導激發源共線。

21.根據權利要求19所述的陣列，其中，所述感測區域相對于所述波導激發源不共線。