[發明專利]用于合成一氧化氮的系統和方法在審
| 申請號: | 201580056811.6 | 申請日: | 2015-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN107073239A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | W·扎波爾;B·余 | 申請(專利權)人: | 通用醫療公司 |
| 主分類號: | A61M16/10 | 分類號: | A61M16/10;A61M16/12 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 江磊,張佳鑫 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 合成 一氧化氮 系統 方法 | ||
1.一種用于產生一氧化氮的設備,其包括:
一對或多對電極;
設置在所述電極下游的過濾器;
設置在所述電極下游的清除劑;
一個或多個傳感器,其設計用來測定氣體的流速、所述電極上游的氧濃度、所述清除劑下游的一氧化氮濃度、以及所述清除劑下游的二氧化氮濃度中的至少一項;
控制器,該控制器與所述電極和所述一個或多個傳感器連接,其設計用來向所述電極供給電信號來控制所述電極的時間安排特性和火花特性;
其中,所述電極的火花特性決定了由所述電極產生的一氧化氮的濃度。
2.如權利要求1所述的設備,其中,所述電極包含碳化鎢、碳、鎳、銥、鈦、錸和鉑中的至少一種。
3.如權利要求1所述的設備,其中,所述電極包含銥。
4.如權利要求1所述的設備,其中,所述清除劑由氫氧化鈣制成。
5.如權利要求1所述的設備,其中,所述一個或多個傳感器包括設置在所述電極下游的氣道流量計、設置在所述電極上游的氧傳感器、設置在所述清除劑下游的一氧化氮傳感器、以及設置在所述清除劑下游的二氧化氮傳感器。
6.如權利要求1所述的設備,其中,點火線圈與所述控制器和所述電極連接。
7.如權利要求6所述的設備,其中,所述控制器還設計用來指導所述點火線圈將儲存的電能供給至所述電極。
8.如權利要求1所述的設備,其中,供給至所述電極的電信號控制下述中的至少一項:每秒的電極火花組的數量、每個火花組的單個電極火花的數量、單個電極火花之間的時間、以及脈沖持續時間。
9.如權利要求8所述的設備,其中,所述控制器還設計用來對來自所述一個或多個傳感器的反饋作出響應,來改變下述中的至少一項:每秒的電極火花組的數量、每個火花組的單個電極火花的數量、單個電極火花間的時間、以及脈沖持續時間。
10.如權利要求1所述的設備,其中,還包括設置在所述電極上游的氣泵。
11.如權利要求1所述的設備,其中,所述一個或多個傳感器提供吸氣的指示。
12.如權利要求12所述的設備,其中,所述控制器還設計用來對吸氣的檢出作出響應,來將所述電信號供給至所述電極。
13.如權利要求1所述的設備,其中,所述過濾器設計用來過濾在所述電極下游流動的、直徑大于約0.22微米的顆粒。
14.一種被整合到呼吸系統中的、用于產生一氧化氮的設備,該呼吸系統包括呼吸設備、吸氣通路、以及設置在所述吸氣通路上的氣道流量計,所述設備包括:
與所述吸氣通路連接的一對或多對電極;
設置在所述電極下游的過濾器;
設置在所述電極下游的清除劑;
一個或多個傳感器,其設計用來測定下述中的至少一項:所述電極上游的氧濃度、大氣壓、所述清除劑下游的一氧化氮濃度、以及所述清除劑下游的二氧化氮濃度;
控制器,該控制器與所述電極、所述一個或多個傳感器和所述氣道流量計連接,其設計用來向所述電極供給電信號來控制所述電極的時間安排特性和火花特性;
其中,所述電極的火花特性決定了由所述電極產生的一氧化氮的濃度。
15.如權利要求14所述的設備,其中,所述電極設置在進口和出口之間,所述出口與所述吸氣通路偶聯。
16.如權利要求14所述的設備,其中,所述電極至少被部分地整合到所述吸氣通路中。
17.如權利要求16所述的設備,其中,所述過濾器設置在所述吸氣通路上。
18.如權利要求16所述的設備,其中,所述清除劑設置在所述吸氣通路上。
19.如權利要求14所述的設備,其中,所述電極包含碳化鎢、碳、鎳、銥、鈦、錸和鉑中的至少一種。
20.如權利要求14所述的設備,其中,所述電極包含銥。
21.如權利要求14所述的設備,其中,所述清除劑由氫氧化鈣制成。
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