[發明專利]多孔二氧化硅系顆粒和清潔用化妝品

有效

• 申請號: 201580055639.2
• 申請日: 2015-11-05
• 公開（公告）號: CN106794995B
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發明（設計）人: 渡邊慧;榎本直幸;三好康敬;小松通郎
• 申請（專利權）人: 日揮觸媒化成株式會社
• 主分類號: C01B33/157
• 分類號: C01B33/157;A61K8/25;A61Q19/10
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司11290
• 代理人: 周善來,李雪春

技術領域

本發明涉及多孔二氧化硅系顆粒及包含該多孔二氧化硅系顆粒的清潔用化妝品，更具體地說，涉及磨損性的多孔二氧化硅系顆粒。

背景技術

清潔用化妝品中包含利用物理性作用剝掉老的角質層的磨砂劑。作為磨砂劑，已為公眾所知的有微小的塑料顆粒(例如聚乙烯顆粒)(參照專利文獻1)。塑料顆粒容易吸收殺蟲劑等化學物質，此外，因為重量輕而難以在下水處理廠除去。因此，塑料顆粒存在下述問題：流入江河、海洋、池沼等，在魚類和貝類中蓄積，并通過它們影響人體。

近年，作為磨砂劑也使用硅膠(シリカゲル)顆粒。硅膠顆粒可以通過專利文獻2、3所公開的制造方法得到。專利文獻4中公開了：由特定的硅膠顆粒構成的磨砂劑，“使用時的磨砂感”良好，并且由于涂擦時顆粒崩潰，所以磨砂劑對對象物的刺激低。該磨砂劑不存在塑料顆粒的上述問題。此外，專利文獻4中還公開了作為硅膠顆粒，盡管也可以使用破碎狀的顆粒，但是如果是球狀，則硅膠顆粒(磨砂劑)接觸皮膚時，能得到柔軟的使用感覺，根據該點優選球狀的硅膠顆粒，并且公開了使用后的刺痛感小。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開2001-278778號

專利文獻2：日本專利公開公報特開昭62-275014號

專利文獻3：日本專利公開公報特開平10-324517號

專利文獻4：日本專利公開公報特開2011-225548號

發明內容

本發明要解決的技術問題

可是，對于使用后的刺痛感小的磨砂劑，存在下述問題：使用中為了得到所希望的磨砂感而用強的按壓壓力涂擦磨砂劑，在微觀上，角質層產生清洗痕等微小損傷，由此可能導致角質層的屏蔽功能和保水功能降低。

本發明的目的是提供必要的多孔二氧化硅系顆粒，用于實現即使用弱的涂擦力(按壓壓力)涂擦也能得到足夠的磨砂感并且刺痛感得到抑制的清潔用化妝品。

解決技術問題的技術方案

本發明的多孔二氧化硅系顆粒具有以下的特性(i)～(iv)。

(i)平均圓度為0.1～0.5，

(ii)微孔容積(Pv)為1.0～2.0ml/g，

(iii)眾數直徑(D_m)為50～600μm，

(iv)最大粒徑(D₁₀₀)與眾數直徑(D_m)之比(D₁₀₀/D_m)為3.0以下。

此外，優選的是，所述多孔二氧化硅系顆粒的用1.0～1.4KPa涂擦30秒鐘后的中位徑(D_R50)處于0.5～25μm的范圍，最大粒徑(D_R100)處于1～100μm的范圍。

此外，優選的是，多孔二氧化硅系顆粒的最大微孔徑(PD₁₀₀)與最小微孔徑(PD₀)之比(PD₁₀₀/PD₀)處于5～10的范圍。此外，當施加0.5gf的壓縮力f1時，所述多孔二氧化硅系顆粒產生0.5～3μm的位移。此外，當對多孔二氧化硅系顆粒施加以0.21gf/sec的比例增加到2.5gf的壓縮力時，產生5次以上的0.01～1.0μm的臺階狀位移。

通過使用上述的多孔二氧化硅系顆粒，能夠得到滿足使用磨砂劑的觸感和清潔感這雙方的清潔用化妝品。

發明效果

按照本發明，能夠實現即使用弱的涂擦力(按壓壓力)研磨也能得到足夠的磨砂感并且刺痛感得到抑制的清潔用化妝品。因此，能夠抑制皮膚的損傷、以及有可能導致角質層的屏蔽功能和保水功能降低的對角質層造成的線狀痕跡等微小損傷。

附圖說明

圖1是用掃描型電子顯微鏡拍攝在實施例1中得到的多孔二氧化硅系顆粒的SEM照片(倍率100倍)。

圖2是用掃描型電子顯微鏡拍攝涂擦在實施例1中得到的多孔二氧化硅系顆粒后的SEM照片(倍率100倍)。

圖3是表示實施例1的多孔二氧化硅系顆粒的、壓縮力和位移的關系的圖。

圖4是表示實施例1的多孔二氧化硅系顆粒的、壓縮力和位移的關系的圖。

圖5是表示實施例1的多孔二氧化硅系顆粒的、壓縮力和位移的關系的圖。

具體實施方式