[發(fā)明專利]紅外線遮蔽性組合物、固化膜及固體攝像裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580053503.8
• 申請日: 2015-12-22
• 公開（公告）號: CN107076894B
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 畠山耕治;嶋田遵生子;河合孝廣;若林隆太郎
• 申請（專利權(quán)）人: JSR株式會社
• 主分類號: G02B5/22
• 分類號: G02B5/22;C08K3/00;C08K5/00;C08L83/04;C09K3/00;H01L27/146
• 代理公司: 11227 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 左嘉勛;顧晉偉

1.一種紅外線遮蔽性組合物，含有A在波長700～2000nm的范圍內(nèi)具有極大吸收波長的紅外線遮蔽劑、以及B硅氧烷聚合物，

B硅氧烷聚合物具有由下述式(1)表示的結(jié)構(gòu)單元α和由下述式(3)表示的結(jié)構(gòu)單元β，結(jié)構(gòu)單元α與結(jié)構(gòu)單元β的含有比例α/β以摩爾比計為85/15～20/80，

式中，

R¹表示芳香族烴基，

R³表示鏈狀烴基，

m和n相互獨立地表示1～3的整數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，m和n為1。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，A紅外線吸收劑為選自二亞銨系化合物、方酸菁系化合物、花菁系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、四萘嵌三苯系化合物、銨系化合物、亞銨系化合物、偶氮系化合物、蒽醌系化合物、卟啉系化合物、吡咯并吡咯系化合物、氧雜菁系化合物、克酮酸系化合物、六元卟啉系化合物、金屬二硫醇系化合物、銅化合物、鎢化合物和金屬硼化物中的至少1種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，進一步含有C光敏劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，進一步含有C光敏劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，進一步含有熱敏劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紅外線遮蔽性組合物，其中，進一步含有熱敏劑。

8.一種固化膜，是使用權(quán)利要求1～7中任一項所述的紅外線遮蔽性組合物而形成的。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的固化膜，其中，在膜厚為0.5μm時，在波長500～600nm的波段中的光的最小透射率為90％以上，且在波長850nm處的光的透射率為40％以下。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的固化膜，其為紅外線截止濾波器。

11.一種固體攝像裝置，其具備權(quán)利要求8～10中任一項所述的固化膜。

12.一種固體攝像裝置，具備透射可見光和至少一部分紅外光的第1光學層、以及吸收至少一部分紅外光的第2光學層，

所述第2光學層具有透射可見光和紅外光的開口部，且由使用含有下述成分A和B的紅外線遮蔽性組合物所形成的固化膜構(gòu)成，

A在波長700～2000nm的范圍內(nèi)具有極大吸收波長的紅外線遮蔽劑，

B具有芳香族烴基的硅氧烷聚合物，

硅氧烷聚合物具有由下述式(1)表示的結(jié)構(gòu)單元α和由下述式(3)表示的結(jié)構(gòu)單元β，結(jié)構(gòu)單元α與結(jié)構(gòu)單元β的含有比例α/β以摩爾比計為85/15～20/80，

式中，

R¹表示芳香族烴基，

R³表示鏈狀烴基，

m和n相互獨立地表示1～3的整數(shù)。