[發(fā)明專利]經(jīng)藍(lán)寶石薄膜涂覆的可撓基板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580052943.1
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN107109623B
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 謝國偉;李敬輝;譚海嵐;李嘉旋;李貴新;林永銳;陳余偉
• 申請（專利權(quán)）人: 香港浸會大學(xué)
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/34
• 代理公司: 深圳市瑞方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314
• 代理人: 張約宗

1.一種將藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆于可撓基板上的方法，其包含：

將至少一個第一薄膜沉積于至少一個第一基板上以形成至少一個經(jīng)第一薄膜涂覆的基板的至少一個第一沉積過程；

將至少一個第二薄膜沉積于所述至少一個經(jīng)第一薄膜涂覆的基板上以形成至少一個經(jīng)第二薄膜涂覆的基板的至少一個第二沉積過程；

將至少一種催化劑沉積于所述至少一個經(jīng)第二薄膜涂覆的基板上以形成至少一個經(jīng)催化劑涂覆的基板的至少一個第三沉積過程；

將至少一個藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜沉積于所述至少一個經(jīng)催化劑涂覆的基板上以形成至少一個經(jīng)藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆的基板的至少一個第四沉積過程；

至少一個退火過程，其中所述至少一個經(jīng)藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆的基板在范圍介于300℃至低于藍(lán)寶石(Al₂O₃)熔點的退火溫度下退火有效持續(xù)時間以形成至少一個經(jīng)硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜涂覆的基板；

將至少一個可撓基板附接于所述至少一個藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜上的所述至少一個經(jīng)硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜涂覆的基板；

至少一個機械分離過程，使所述至少一個硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜連同所述至少一個第二薄膜與所述至少一個經(jīng)第一薄膜涂覆的基板分離以在所述至少一個可撓基板上形成至少一個經(jīng)第二薄膜涂覆的硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜；以及

至少一個蝕刻過程，自于所述至少一個可撓基板上的所述至少一個經(jīng)第二薄膜涂覆的硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜移除所述至少一個第二薄膜以形成至少一個經(jīng)藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜涂覆的可撓基板；

其中所述至少一個可撓基板與所述至少一個硬化藍(lán)寶石(Al2O3)薄膜之間的所述附接比所述至少一個第一薄膜與所述第二薄膜之間的黏結(jié)性強。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆于可撓基板上的方法，其特征在于，其中所述第一及/或所述可撓基板包含至少一種莫氏值低于所述沉積的至少一個藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜的材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆于可撓基板上的方法，其特征在于，其中所述至少一個第一及/或第二及/或第三及/或第四沉積過程包含電子束沉積及/或濺射沉積。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆于可撓基板上的方法，其特征在于，其中所述至少一個經(jīng)藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆的基板及/或至少一個經(jīng)硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆的基板及/或在所述至少一個可撓基板上的至少一個經(jīng)第二薄膜涂覆的硬化藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜及/或至少一個經(jīng)藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜涂覆的可撓基板包含至少一個藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石(Al₂O₃)涂覆于可撓基板上的方法，其特征在于，其中所述至少一個第一基板及/或所述至少一個可撓基板的厚度比所述至少一個藍(lán)寶石(Al₂O₃)薄膜的厚度大一或多個數(shù)量級。