[發明專利]阻氣膜、電子器件及阻氣膜的制造方法

在審

• 申請號: 201580052107.3
• 申請日: 2015-09-16
• 公開（公告）號: CN106715117A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: 藥師寺隆
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

1.一種阻氣膜，其特征在于，具有：

支撐體；

有機無機層疊結構，其形成于所述支撐體上且具有至少一層有機層及至少一層無機層，由所述有機層及無機層交替層疊而成；及

識別標記，其形成于至少一層所述有機層的形成面上。

2.根據權利要求1所述的阻氣膜，其中，

在所述支撐體的表面上形成有所述識別標記及所述有機層。

3.根據權利要求1或2所述的阻氣膜，其中，

形成于所述識別標記的形成面上的有機層吸收因所述識別標記而產生的凹凸而具有平坦的表面。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的阻氣膜，其中，

形成于所述識別標記的形成面的有機層具有所述識別標記的兩倍以上的厚度。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的阻氣膜，其中，

所述識別標記的厚度為200nm以下，且形成于所述識別標記的形成面的有機層的厚度為500nm以上。

6.一種電子器件，其特征在于，

在權利要求1至5中任一項所述的阻氣膜上形成有構成電子器件的電子元件。

7.一種阻氣膜的制造方法，其特征在于，

在支撐體上形成有機無機層疊結構，該有機無機層疊結構具有至少一層有機層和至少一層無機層，由所述有機層和無機層交替層疊而成，

在形成至少一層所述有機層之前，在所述有機層的形成面上形成識別標記。

8.根據權利要求7所述的阻氣膜的制造方法，其中，

在所述支撐體上形成所述識別標記及所述有機層。

9.根據權利要求7或8所述的阻氣膜的制造方法，其中，

通過利用了組合物的涂布法來形成所述有機層，該組合物包含聚合性化合物。