[發(fā)明專利]液體噴吐頭以及記錄裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580046114.2 | 申請日: | 2015-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN106794695B | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小林直樹 | 申請(專利權(quán))人: | 京瓷株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/14 | 分類號: | B41J2/14 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 樸英淑 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液體 噴吐 以及 記錄 裝置 | ||
1.一種液體噴吐頭,其特征在于,具備:
多個(gè)噴吐單元,具備噴吐孔、與該噴吐孔連通的加壓室、向該加壓室供給液體的第一流路、以及從所述加壓室回收液體的第二流路;
加壓部,對所述加壓室進(jìn)行加壓;
第三流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第一流路共同連接,向該噴吐單元供給液體;
第四流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第二流路共同連接,從該噴吐單元回收液體;以及
第五流路,對所述噴吐單元彼此進(jìn)行連接,流路阻力比所述第一流路和所述第二流路大,
所述第三流路和所述第四流路在第一方向上延伸,
所述第五流路在所述第一方向上延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴吐頭,其特征在于,
多個(gè)所述噴吐單元在所述第一方向上排列,
所述第五流路對三個(gè)以上的在所述第一方向上相鄰的所述噴吐單元彼此連續(xù)地進(jìn)行連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴吐頭,其特征在于,
多個(gè)所述噴吐單元在所述第一方向上排列,
所述第五流路對多個(gè)所述噴吐單元中的一個(gè)所述噴吐單元和在所述第一方向上與該一個(gè)噴吐單元相鄰的兩個(gè)所述噴吐單元中的任一個(gè)所述噴吐單元進(jìn)行連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的液體噴吐頭,其特征在于,
所述第五流路面向阻尼器。
5.一種液體噴吐頭,其特征在于,具備:
多個(gè)噴吐單元,具備噴吐孔、與該噴吐孔連通的加壓室、向該加壓室供給液體的第一流路、以及從所述加壓室回收液體的第二流路;
加壓部,對所述加壓室進(jìn)行加壓;
第三流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第一流路共同連接,向該噴吐單元供給液體;
第四流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第二流路共同連接,從該噴吐單元回收液體;以及
第五流路,對所述噴吐單元彼此進(jìn)行連接,流路阻力比所述第一流路和所述第二流路大,
所述第五流路的一端與所述第一流路或所述第二流路連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體噴吐頭,其特征在于,
所述第五流路的另一端與所述第一流路或所述第二流路連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體噴吐頭,其特征在于,
所述第五流路的另一端與所述加壓室連接。
8.一種液體噴吐頭,其特征在于,具備:
多個(gè)噴吐單元,具備噴吐孔、與該噴吐孔連通的加壓室、向該加壓室供給液體的第一流路、以及從所述加壓室回收液體的第二流路;
加壓部,對所述加壓室進(jìn)行加壓;
第三流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第一流路共同連接,向該噴吐單元供給液體;
第四流路,與多個(gè)所述噴吐單元的各自的所述第二流路共同連接,從該噴吐單元回收液體;以及
第五流路,對所述噴吐單元彼此進(jìn)行連接,流路阻力比所述第一流路和所述第二流路大,
所述第五流路對所述第一流路彼此進(jìn)行連接或?qū)λ龅诙髀繁舜诉M(jìn)行連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求5~8中的任一項(xiàng)所述的液體噴吐頭,其特征在于,
所述第三流路和所述第四流路在第一方向上延伸,
所述第五流路在作為與所述第一方向交叉的方向的第二方向上延伸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液體噴吐頭,其特征在于,
多個(gè)所述噴吐單元隔著所述第四流路而設(shè)置,
在將與所述第一方向和所述第二方向分別正交的方向設(shè)為第三方向時(shí),
所述加壓部位于比所述第四流路更靠所述第三方向上的一側(cè),
所述噴吐孔位于比所述第四流路更靠所述第三方向上的另一側(cè),
所述第五流路位于比所述第四流路更靠所述第三方向上的另一側(cè)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京瓷株式會社,未經(jīng)京瓷株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580046114.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





