[發明專利]測量方法、測量設備、光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 201580045832.8
• 申請日: 2015-05-29
• 公開（公告）號: CN106796406B
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發明（設計）人: E·W·埃伯特;F·G·C·比基恩
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司;ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種測量設備，包括：

光學系統，用以將照射輻射提供至周期性結構上的光斑中，且用以接收由所述周期性結構重新導向的輻射，所述光學系統包括：

第一光闌，用以阻擋來自所述周期性結構的零階輻射且允許非零階輻射穿過；和

第二光闌，用以阻擋穿過所述第一光闌的零階輻射且允許所述非零階輻射穿過；以及

輻射檢測器，在所述光學系統的下游，并用以接收所述非零階輻射。

2.根據權利要求1所述的測量設備，其中所述第一光闌包括反射鏡。

3.根據權利要求2所述的測量設備，還包括用以將所述照射輻射提供至所述反射鏡的輻射輸入件，所述反射鏡被配置以朝向所述周期性結構上的所述光斑提供所述照射輻射。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的測量設備，其中所述第一光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

5.根據權利要求4所述的測量設備，其中所述第二光闌是所述棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌是板的一部分、在所述板中或在所述板上。

8.根據權利要求7所述的測量設備，其中所述板被安裝于鉸鏈上。

9.根據權利要求1至6中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌是由框架可釋放地支撐的支撐臂結構的一部分、在所述支撐臂結構中或在所述支撐臂結構上。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌是不透明特征。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌是散射或反射特征。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的測量設備，其中所述第二光闌可移動至被重新導向的輻射的路徑中和從被重新導向的輻射的路徑中移出。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的測量設備，其中所述檢測器被配置以由所接收的非零階輻射來確定對準。

14.一種光刻設備，包括：

圖案形成子系統，被配置以將圖案轉印至襯底；

測量子系統，被配置以測量所述襯底相對于所述圖案形成子系統的位置，

其中所述圖案形成子系統被布置以使用由所述測量子系統測量的所述位置而將所述圖案施加于所述襯底上的所需位置處，且其中所述測量子系統包括根據權利要求1至13中任一項所述的測量設備。

15.一種測量方法，所述方法包括：

將輻射提供至周期性結構上的光斑中；

接收由所述周期性結構重新導向的輻射，被重新導向的輻射包括零階輻射和非零階輻射；

使用第一光闌阻擋被重新導向的輻射的零階輻射，同時允許非零階輻射通過所述第一光闌；

使用第二光闌阻擋通過所述第一光闌的零階輻射，同時允許非零階輻射通過所述第二光闌；和

在所述第一光闌和所述第二光闌下游的輻射檢測器處接收所述非零階輻射。

16.根據權利要求15所述的方法，其中所述第一光闌包括反射鏡，且所述方法進一步包括將照射輻射提供至所述反射鏡，所述反射鏡朝向所述周期性結構上的所述光斑提供所述照射輻射。

17.根據權利要求15或16所述的方法，其中所述第一光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

18.根據權利要求17所述的方法，其中所述第二光闌是所述棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

19.根據權利要求15或16所述的方法，其中所述第二光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。

20.根據權利要求12至16中任一項所述的方法，進一步包括將所述第二光闌移動至被重新導向的輻射的路徑中和從被重新導向的輻射的路徑中移出。

21.根據權利要求20所述的方法，其中所述第二光闌是安裝于鉸鏈上的板的一部分、在所述板中或在所述板上，且其中移動所述第二光闌包括圍繞所述鉸鏈旋轉所述板。