[發明專利]雷達料位測量裝置

有效

• 申請號: 201580045082.4
• 申請日: 2015-08-19
• 公開（公告）號: CN107076598B
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發明（設計）人: 哈拉爾德·法貝爾;阿列克謝·馬利諾夫斯基
• 申請（專利權）人: 恩德萊斯和豪瑟爾歐洲兩合公司
• 主分類號: G01F23/284
• 分類號: G01F23/284
• 代理公司: 11219 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 戚傳江;金潔

1.一種用于測量容器(8)中材料(9)的料位(10)的基于雷達的料位測量裝置(1)，包括：

電子單元(2)，

其中，所述電子單元(2)用于生成發送信號，

其中，所述電子單元(2)用于處理接收的信號，

所述接收的信號包含所述發送信號的反射的部分，

所述反射的部分是從待測量其距離的所述材料(9)的表面(10)反射的，以及

共軸波導探頭(7)，其中所述共軸波導探頭(7)用于引導所述發送信號(TX)和所述接收的信號(RX)

其特征在于，所述電子單元包括信號發生器(3)以生成頻率調制的發送信號，

在于，所述電子單元(2)包括處理器，用于使用所述接收的信號中包含的相位信息來處理所述接收的信號，

在于，所述處理器計算作為所述材料(9)的所述表面(10)的所述距離的函數的所述接收的信號(RX)的期望相位響應，

在于，所述處理器確定所述接收的信號(RX)在所述接收的信號(RX)的頻率峰值(X)處的相位，其中所述頻率峰值(X)對應所述距離，并且在于，所述處理器將所述確定的相位與所述距離處的所述期望相位響應進行比較。

2.根據權利要求1所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，所述共軸波導探頭(7)的波阻抗對應所述電子單元(2)的輸出阻抗。

3.根據權利要求2所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，通過調整所述共軸波導探頭(7)的外部導體的內徑(R)，調整所述波阻抗。

4.根據權利要求1至3中的一項所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，所述處理器通過在采樣頻率之間和/或附近散布附加頻率點，來確定中頻信號(IF)的頻譜內的頻率峰值(X)的位置，所述采樣頻率是對由所述電子單元(2)的模數轉換器(A/D)采樣的中頻信號(IF)進行快速傅里葉變換而獲得的，其中，所述采樣頻率包括大于預定幅值閾值的各自的頻譜幅值。

5.根據權利要求4所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，所述處理器在所述采樣頻率和附加頻率點執行離散傅里葉變換。

6.根據權利要求4所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，所述處理器在所述采樣頻率和附加頻率點應用廣義goetzel算法。

7.根據權利要求1至3中的一項所述的基于雷達的料位測量裝置(1)，其特征在于，所述處理器通過在附加頻率點或在頻率峰值(X)的采樣頻率應用廣義goetzel算法，確定所述頻率峰值(X)的相位，其中，所述頻率點或采樣頻率包含大于任何鄰近頻率點或采樣頻率的頻譜幅值。