[發(fā)明專利]成膜裝置、有機膜的膜厚測量方法以及有機膜用膜厚傳感器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580020079.7 | 申請日： | 2015-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN106232858A | 公開（公告）日： | 2016-12-14 |
| 發(fā)明（設計）人： | 伊藤敦;深尾萬里;小林義和 | 申請（專利權）人： | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/12;G01B7/06;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京華夏正合知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙)11017 | 代理人： | 韓登營;蔣國偉 |
| 地址： | 暫無信息 | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 有機 測量方法 以及 膜用膜厚 傳感器 | ||
【說明書】：
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
