[發(fā)明專利]感光性元件、層疊體、永久掩模抗蝕劑及其制造方法以及半導(dǎo)體封裝體的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580020045.8 | 申請日： | 2015-04-24 |
| 公開（公告）號： | CN106233205B | 公開（公告）日： | 2020-06-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 名越俊昌;田中惠生;福住志津 | 申請（專利權(quán)）人： | 日立化成株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;B32B7/02;B32B27/38;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/029;H05K3/28 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陳建全 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 感光性 元件 層疊 永久 掩模抗蝕劑 及其 制造 方法 以及 半導(dǎo)體 封裝 | ||
【權(quán)利要求書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
