[發明專利]傳感器系統、襯底輸送系統和光刻設備有效
| 申請號： | 201580012769.8 | 申請日： | 2015-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN106104382B | 公開（公告）日： | 2018-06-26 |
| 發明（設計）人： | J·洛夫;J·考夫曼;M·D·N·彼得斯;P·T·呂特格爾斯;M·H·W·斯道派歐;G·范德艾克曼;H·K·范德舒特;R·維瑟 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 張啟程 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射元件 傳感器系統 檢測器裝置 反射 輻射源 支撐表面 平面的 襯底 襯底輸送系統 發射輻射 反射輻射 光刻設備 襯底臺 照射 配置 支撐 | ||
【說明書】：
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