[發明專利]將印跡從基底轉印至表面的方法和裝置有效
| 申請號: | 201580010053.4 | 申請日: | 2015-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN106163787B | 公開(公告)日: | 2017-12-15 |
| 發明(設計)人: | 蘇克德夫·馬哈詹·達亞拉姆 | 申請(專利權)人: | M/S.康伊美芝梅迪亞技術公司 |
| 主分類號: | B32B3/14 | 分類號: | B32B3/14 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 印度*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 印跡 基底 轉印至 表面 方法 裝置 | ||
1.一種將印跡從基底轉印至表面的方法,包括如下步驟:
(i)在基底的一面上涂覆脫模劑,并干燥;
(ii)在所述基底上的所述脫模劑層上涂覆聚醋酸乙烯酯,并干燥;
(iii)在所述基底上的聚醋酸乙烯酯層上涂覆丙烯酰胺和醋酸苯乙烯酯的混合物,并干燥;
(iv)在丙烯酰胺和苯乙烯酸層上壓印某人或某事的標記、圖形或繪畫顯示(印跡);
(v)從所述基底上分離承載印跡的聚醋酸乙烯酯、丙烯酰胺和醋酸苯乙烯酯的層/膜;
(vi)將步驟(v)中獲得的分離的層/膜的背面粘附在所述表面上;
(vii)在粘附至所述表面的、承載所述印跡的所述層/膜上涂覆水。
2.一種將印跡從基底轉印至表面的方法,包括如下步驟:
(i)在基底的一面上涂覆脫模劑,并干燥;
(ii)在基底上的所述脫模劑層上涂覆聚醋酸乙烯酯、丙烯酰胺和醋酸苯乙烯酯的混合物,并干燥;
(iii)在聚醋酸乙烯酯、丙烯酰胺和醋酸苯乙烯酯的混合物的層上壓印某人或某事的標記、圖形或繪畫顯示(印跡);
(iv)從所述基底上分離承載印跡的聚醋酸乙烯酯、丙烯酰胺和醋酸苯乙烯酯的層/膜;
(v)將步驟(iv)中獲得的分離的層/膜的背面粘附在所述表面上;
(vi)在粘附至所述表面的、承載所述印跡的所述層/膜上涂覆水。
3.如權利要求1所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,在將權利要求1的步驟(v)中獲得的層/膜的背面粘合在所述表面上之前,先在所述層/膜背面涂覆粘合劑,或者在將權利要求1的步驟(v)中獲得的層/膜粘合在所述表面上之前,將粘合劑涂覆在所述表面上。
4.如權利要求2所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,在所述表面上粘合權利要求2的步驟(iv)中獲得的層/膜之前,先在所述層/膜背面涂覆粘合劑,或者在將權利要求2的步驟(iv)中獲得的層/膜粘合在所述表面上之前,將粘合劑涂覆在所述表面上。
5.如權利要求2所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,將脫模劑涂覆在步驟(i)中所述的基底上獲得/制備第二基底,粘合劑涂覆在所述第二基底的脫模劑層上,權利要求2中步驟(ii)中獲得的層/膜被轉印在所述第二基底的粘合劑層上,然后剩余的步驟同權利要求2中的步驟(iii)至(vi)。
6.如權利要求1所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,脫模劑選自硅酮脫模劑。
7.如權利要求2所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,脫模劑選自硅酮脫模劑。
8.如權利要求1所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,基底為一種內襯材料,選自Super Calandered Kraft(SCK)紙、聚合物涂覆的牛皮紙、薄玻璃紙、粘土涂覆的牛皮紙(CCK)、機器制作的牛皮紙(MFK)或機器拋光的紙(MG);或選自BO-PET膜(雙向拉伸)、BOPP(雙向拉伸的PP膜)或其它通常由HDPE、LDPE或PP塑料樹脂制得的聚烯烴膜。
9.如權利要求8所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,所述的BO-PET膜(雙向拉伸)為聚合物涂覆的BO-PET膜。
10.如權利要求2所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,基底為一種內襯材料,選自Super Calandered Kraft(SCK)紙、聚合物涂覆的牛皮紙、薄玻璃紙、粘土涂覆的牛皮紙(CCK)、機器制作的牛皮紙(MFK)或機器拋光的紙(MG);或選自BO-PET膜(雙向拉伸)、BOPP(雙向拉伸的PP膜)或其它通常由HDPE、LDPE或PP塑料樹脂制得的聚烯烴膜。
11.如權利要求10所述的將印跡從基底轉印至表面的方法,其中,所述的BO-PET膜(雙向拉伸)為聚合物涂覆的BO-PET膜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于M/S.康伊美芝梅迪亞技術公司,未經M/S.康伊美芝梅迪亞技術公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580010053.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:具有聚集誘導型發射的發光雜化納米材料
- 下一篇:具有環繞護壁的分配裝置
- 同類專利
- 專利分類





