[實用新型]一種沉積爐測溫裝置有效
| 申請號: | 201521087074.X | 申請日: | 2015-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN205295455U | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 胡耀明 | 申請(專利權)人: | 池州山立分子篩有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;G01K7/02 |
| 代理公司: | 蘇州市指南針專利代理事務所(特殊普通合伙) 32268 | 代理人: | 許希富 |
| 地址: | 247000 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 沉積 測溫 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種測溫裝置,尤其涉及一種沉積爐測溫裝置。
背景技術
在國內有二十幾家生產碳分子篩的工廠,基本都是沿用二十世紀八十年代由 日本泊來的傳統沉積爐,其主要結構為:傳統沉積爐的中心軸線上一端是沉積 劑加入管和插入爐內內的熱電偶,另一端是進料、出料及尾氣排出口,由于傳 統沉積爐沉積劑加入管和熱電偶為相互獨立式安裝,導致操作困難以及密封效 果差。鑒于上述缺陷,實有必要設計一種沉積爐測溫裝置。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題在于:提供一種沉積爐測溫裝置,來解決由 于傳統沉積爐沉積劑加入管和熱電偶為相互獨立式安裝,導致拆裝困難以及密 封效果差的問題。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案是:一種沉積爐測溫裝置,包 括沉積爐、蓋板、固定套、第一密封座、第一壓蓋、氮氣噴氣管、第二密封座、 第二壓蓋、熱電偶,所述的固定套貫穿蓋板,所述的固定套與蓋板焊接相連, 所述的第一密封座位于固定套頂部,所述的第一密封座與固定套焊接相連,所 述的第一壓蓋位于第一密封座上端,所述的第一壓蓋與第一密封座螺紋相連, 所述的氮氣噴氣管貫穿第一壓蓋且貫穿第一密封座,所述的氮氣噴氣管與第一 壓蓋間隙相連且與第一密封座間隙相連,所述的第二密封座位于氮氣噴氣管頂 部,所述的第二密封座與氮氣噴氣管焊接相連,所述的第二壓蓋位于第二密封 座上端,所述的第二壓蓋與第二密封座螺紋相連,所述的熱電偶貫穿第二壓蓋 且貫穿第二密封座,所述的熱電偶與第二壓蓋間隙相連且與第二密封座間隙相 連。
本實用新型進一步的改進如下:
進一步的,所述的第一密封座還設有第一密封圈,所述的第一密封圈位于氮 氣噴氣管外壁,所述的第一密封圈與第一密封座緊配相連且與氮氣噴氣管彈性 相連,第一密封圈有效密封第一密封座與氮氣噴氣管結合面。
進一步的,所述的氮氣噴氣管外壁上端左側還設有噴氣接頭,所述的噴氣接 頭與氮氣噴氣管焊接相連,沉積劑隨氮氣通過噴氣接頭進入氮氣噴氣管。
進一步的,所述的氮氣噴氣管底部還設有分氣盤,所述的分氣盤位于熱電偶 外壁,所述的分氣盤與氮氣噴氣管螺紋相連且與熱電偶間隙相連。
進一步的,所述的分氣盤還設有若干分氣孔,所述的分氣孔貫穿分氣盤,所 述的分氣孔均布于分氣盤,含有沉積劑的氮氣通過設置于分氣盤上的分氣孔均 勻的噴向沉積爐。
進一步的,所述的第二密封座還設有第二密封圈,所述的第二密封圈位于熱 電偶外壁,所述的第二密封圈與第二密封座緊配相連且與熱電偶彈性相連,第 二密封圈有效密封第二密封座與熱電偶結合面。
與現有技術相比,該沉積爐測溫裝置,工作時,沉積劑隨氮氣通過噴氣接頭 進入氮氣噴氣管,含有沉積劑的氮氣通過設置于分氣盤上的分氣孔均勻的噴向 沉積爐進行沉積反應,由于氮氣噴氣管與第一壓蓋間隙相連且與第一密封座間 隙相連以及熱電偶與第二壓蓋間隙相連且與第二密封座間隙相連,使得氮氣噴 氣管與熱電偶拆裝方便快捷,同時由于第一密封圈和第二密封圈的密封作用, 有效防止外界空氣與沉積爐內空氣進行氣體交換,提高分子篩品質。該裝置結 構簡單,氮氣噴氣管與熱電偶拆裝方便快捷,且密封效果好,有效提高分子篩 品質。
附圖說明
圖1示出本實用新型主視圖剖視圖
圖2示出本實用新型分氣盤俯視圖
沉積爐1蓋板2
固定套3第一密封座4
第一壓蓋5氮氣噴氣管6
第二密封座7第二壓蓋8
熱電偶9第一密封圈401
噴氣接頭601分氣盤602
分氣孔603第二密封圈701
具體實施方式
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于池州山立分子篩有限公司,未經池州山立分子篩有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201521087074.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種石墨板的涂膠流道
- 下一篇:一種手機殼表面鍍膜裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





