[實用新型]干刻蝕裝置有效
| 申請號： | 201520996048.2 | 申請日： | 2015-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN205140926U | 公開（公告）日： | 2016-04-06 |
| 發明（設計）人： | 徐巖 | 申請（專利權）人： | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人： | 許志勇 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 刻蝕 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種干刻蝕裝置，包括腔室及位于腔室內的基板支撐臺和上部電極， 其特征在于，所述干刻蝕裝置還包括分布于基板支撐臺上且彼此相互獨立設置 的若干冷卻氣道以及連通所述冷卻氣道的供氣裝置。
2.根據權利要求1所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述供氣裝置包括 氣源及連接于所述氣源和所述冷卻氣道之間的控制裝置，所述控制裝置內包括 若干與所述冷卻氣道一一對應連接的控制單元。
3.根據權利要求2所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述氣源為氦氣。
4.根據權利要求2所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述控制單元為流 量計，其數量與所述冷卻氣道的數量相同。
5.根據權利要求1所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述若干冷卻氣道 沿基板支撐臺的周長方向延伸，且由外向內依次分布。
6.根據權利要求5所述的干刻蝕裝置，其特征在于：相鄰兩個冷卻氣道 構成“回”字型，且外側的冷卻氣道的長度大于內側的冷卻氣道的長度。
7.根據權利要求6所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述外側的冷卻氣 道寬于所述內側的冷卻氣道。
8.根據權利要求1所述的干刻蝕裝置，其特征在于：所述基板支撐臺包 括與所述上部電極相對的下部電極及設置于所述下部電極上的臺板，所述若干 冷卻氣道分布于所述臺板上。
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