[實用新型]一種薄壁零件加工用真空吸盤設備

有效

• 申請號: 201520902117.9
• 申請日: 2015-11-13
• 公開（公告）號: CN205085683U
• 公開（公告）日: 2016-03-16
• 發明（設計）人: 鄧昕
• 申請（專利權）人: 蘇州肯美威機械制造有限公司
• 主分類號: B23Q3/00
• 分類號: B23Q3/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及機加工用設備技術領域，特別涉及一種薄壁零件加工用真空吸盤設備。

背景技術

在機械、電子、材料等行業的加工、工裝領域，經常會用到真空吸盤，以實現對工件的夾持、定位等要求。現有的真空吸盤難以對薄壁零件夾持，易造成薄壁零件變形且無法在薄壁零件上打通孔。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型的目的是提供一種薄壁零件加工用真空吸盤設備。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種薄壁零件加工用真空吸盤設備，包括吸盤本體、設置在所述吸盤本體內部的氣道、設置在所述吸盤本體頂面的抽真空槽，所述吸盤本體側面左右兩側設有裝夾條，所述抽真空槽縱橫交錯設置在所述吸盤本體頂面，所述吸盤本體頂面設有密封條，所述密封條將吸盤本體頂面分割成多個真空區域，所述密封條高度高于吸盤本體頂面0.5mm,每一個真空區域均設有至少兩個抽真空孔，所述抽真空孔位于由抽真空槽分割成的支撐塊上，所述支撐塊設有十字槽連通所述抽真空孔和抽真空槽，所述抽真空孔與所述氣道連通，所述氣道連通分流閥，所述分流閥連通真空發生器，所述吸盤本體頂面與工件待加工相對應的位置設有相應型腔，所述型腔位于抽真空槽邊緣且與所述抽真空槽連通，所述型腔位于真空區域外。

上述設計中密封條將吸盤本體頂面分割成多個真空區域便于加工不同數量的零件且防止真空區域抽真空失敗，密封條高度高于吸盤本體頂面0.5mm便于形成真空且防止薄壁零件彎曲變形引起加工精度下降。

作為本設計的進一步改進，所述抽真空槽寬為2-3mm,所述抽真空槽深為3-4mm，邊抽真空且防止堵塞。

作為本設計的進一步改進，所述抽真空孔為錐孔且大口朝上，所述十字槽底面高度高于所述抽真空槽底部高度至少1mm。減少雜物進入氣道堵塞各設備。

作為本設計的進一步改進，所述相鄰兩個抽真空槽距離為30-35mm，吸力大且防止薄壁零件的變形。

本實用新型的有益效果是：本實用新型密封條將吸盤本體頂面分割成多個真空區域便于加工不同數量的零件且防止真空區域抽真空失敗，密封條高度高于吸盤本體頂面0.5mm便于形成真空且防止薄壁零件彎曲變形引起加工精度下降。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的立體結構示意圖。

圖2是本實用新型的局部剖視示意圖。

在圖中1.吸盤本體，2.支撐塊，3.型腔，4.裝夾條，5.分流閥，6.真空發生器，7.抽真空槽，8.抽真空孔，9.十字槽，10.密封條，11.氣道。

具體實施方式

下面將結合附圖以及具體實施例來詳細說明本實用新型，其中的示意性實施例以及說明僅用來解釋本實用新型，但并不作為對本實用新型的限定。

實施例：一種薄壁零件加工用真空吸盤設備，包括吸盤本體1、設置在所述吸盤本體1內部的氣道11、設置在所述吸盤本體1頂面的抽真空槽7，所述吸盤本體1側面左右兩側設有裝夾條4，所述抽真空槽7縱橫交錯設置在所述吸盤本體1頂面，所述吸盤本體1頂面設有密封條10，所述密封條10將吸盤本體1頂面分割成多個真空區域，所述密封條10高度高于吸盤本體1頂面0.5mm,每一個真空區域均設有至少兩個抽真空孔8，所述抽真空孔8位于由抽真空槽7分割成的支撐塊2上，所述支撐塊2設有十字槽9連通所述抽真空孔8和抽真空槽7，所述抽真空孔8與所述氣道11連通，所述氣道11連通分流閥5，所述分流閥5連通真空發生器6，所述吸盤本體1頂面與工件待加工相對應的位置設有相應型腔3，所述型腔3位于抽真空槽7邊緣且與所述抽真空槽7連通，所述型腔3位于真空區域外。

上述設計中密封條10將吸盤本體1頂面分割成多個真空區域便于加工不同數量的零件且防止真空區域抽真空失敗，密封條10高度高于吸盤本體1頂面0.5mm便于形成真空且防止薄壁零件彎曲變形引起加工精度下降。

作為本設計的進一步改進，所述抽真空槽7寬為2-3mm,所述抽真空槽7深為3-4mm，邊抽真空且防止堵塞。

作為本設計的進一步改進，所述抽真空孔8為錐孔且大口朝上，所述十字槽9底面高度高于所述抽真空槽7底部高度至少1mm。減少雜物進入氣道11堵塞各設備，便于對廢棄的抽真空孔8封堵。

作為本設計的進一步改進，所述相鄰兩個抽真空槽7距離為30-35mm，吸力大且防止薄壁零件的變形。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。