[實用新型]高產出晶片固著裝置有效
| 申請號: | 201520851749.7 | 申請日: | 2015-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN205194664U | 公開(公告)日: | 2016-04-27 |
| 發明(設計)人: | 石敦智 | 申請(專利權)人: | 蘇州均華精密機械有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡;徐丹 |
| 地址: | 215101 江蘇省蘇州市吳中區*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 產出 晶片 固著 裝置 | ||
1.一種高產出晶片固著裝置,其特征在于:其包含有:
一載臺;
一多吸放單元,其系位于該載臺的上方;
一調整臺,其系相鄰于該載臺;
一承臺,其系相鄰于該調整臺;以及
一多壓合單元,其系設于該承臺的上方;
其中,該載臺系供至少二第一工件設置;該多吸放單元系吸取該至少二第一工件,并將該至少二第一工件放置于該調整臺;該承臺系供一第二工件設置;該多壓合單元系進行一旋轉運動,該多壓合單元系吸取位于該調整臺的至少二第一工件,并將該至少二第一工件壓合于該第二工件。
2.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:所述調整臺系調整該至少二第一工件的相對位置,該調整臺具有一位移模塊,以使該調整臺能夠進行一縱向往復運動、一直線往復運動或一橫向往復運動。
3.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:其更具有一翻轉單元,該翻轉單元系位于該調整臺與該多壓合單元之間。
4.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:其更具有一第一視覺定位模塊,該第一視覺定位模塊系位于該多吸放單元的上方。
5.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:其更具有一第二視覺定位模塊,該第二視覺定位模塊系位于該調整臺的上方。
6.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:其更具有一第三視覺定位模塊,該第三視覺定位模塊系位于該承臺與該多壓合單元的上方。
7.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:所述載臺具有一位移模塊,以使該載臺進行一直線往復運動、一橫向往復移動或一旋轉運動;該承臺具有一位移模塊,以使該承臺進行一直線往復運動、一橫向往復移動或一旋轉往附運動。
8.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:其更具有一多頂出單元,該多頂出單元系設于該載臺的下方,該多頂出單元具有至少二頂針,該多頂出單元更具有一位移模塊,以使該多頂出單元系相對于該載臺呈一縱向往復運動、一直線往復運動或一橫向往復運動。
9.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:所述多吸放單元具有一位移模塊,以使該多吸放單元進行一縱向往復移動、一直線往復運動或一橫向往復運動,該多吸放單元具有至少二吸取頭。
10.根據權利要求1所述高產出晶片固著裝置,其特征在于:所述多壓合單元具有一位移模塊,以使該多壓合單元進行一縱向往復運動或該旋轉運動,該多壓合單元具有至少二壓合頭。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





