[實(shí)用新型]一種空間硅太陽電池的減反射膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520802342.5
• 申請(qǐng)日: 2015-10-13
• 公開（公告）號(hào): CN205122595U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 司曉東;徐娟;雷偉;杜文龍;王玟藶;盧曉飛;楊文華;周桃;劉永生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海電力學(xué)院
• 主分類號(hào): H01L31/0216
• 分類號(hào): H01L31/0216;B82B1/00
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根

1.一種空間硅太陽電池的減反射膜，至少由兩層減反射膜組成，其特征在于，其中至少有一層采用折射率低于1.4的納米材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述空間硅太陽電池的減反射膜，其特征在于，所述減反射膜為雙層，第一層為納米材料，折射率n₁為1.1≤n₁≤1.3，膜厚度d₁為110nm，第二層為常規(guī)折射率材料，折射率n₂為2.3，膜厚度d₂為64nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述空間硅太陽電池的減反射膜，其特征在于，所述減反射膜為三層，第一層為納米材料，折射率n₁為1.3，膜厚度d₁為66nm，第二層為常規(guī)折射率材料，折射率n₂為1.46，膜厚度d₂為50nm，第三層為常規(guī)折射率材料，折射率n₃為2.3，膜厚度d₃為60nm。