[實用新型]激光蝕刻設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520742085.0
• 申請日: 2015-09-23
• 公開（公告）號: CN205074678U
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳耀宗;張裕洋;丁定國
• 申請（專利權(quán)）人: 位元奈米科技股份有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/08;B23K26/142;B23K26/70;B23K37/04
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李靜;馬強

1.一種激光蝕刻設(shè)備，用于圖案化一透明導電基板的一導電層，其中所述導電層上具有供進行激光蝕刻作業(yè)的多個作業(yè)區(qū)域，且相鄰的兩個作業(yè)區(qū)域之間具有一接圖界面，其特征在于，所述激光蝕刻設(shè)備包括：

一作業(yè)平臺；

一激光光源模組，所述激光光源模組定位于所述作業(yè)平臺的上方，用于將一部分的所述導電層燒毀，以分別在所述多個作業(yè)區(qū)域內(nèi)形成一預定的蝕刻圖案，其中多個所述蝕刻圖案中的任一蝕刻圖案包括跨越相鄰的任一所述接圖界面的至少一蝕刻線段；以及

一蝕刻執(zhí)行裝置，所述蝕刻執(zhí)行裝置設(shè)置于所述作業(yè)平臺上，用于移載所述透明導電基板，以使所述多個作業(yè)區(qū)域循序地接受所述激光光源模組所施予的激光蝕刻作業(yè)，并帶動所述透明導電基板緩沖停止，使至少一所述蝕刻線段具有跨越相鄰的任一所述接圖界面的一延伸蝕刻長度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述蝕刻執(zhí)行裝置包括一移載機構(gòu)及一設(shè)置于所述移載機構(gòu)上的承載盤，所述承載盤用于承載固定所述透明導電基板，且所述移載機構(gòu)用于驅(qū)動所述承載盤橫向平移。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一基板吸附裝置，所述基板吸附裝置設(shè)置于所述承載盤的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一多孔質(zhì)基板襯墊，所述多孔質(zhì)基板襯墊設(shè)置于所述作業(yè)平臺上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述多孔質(zhì)基板襯墊為一多孔質(zhì)纖維布。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述多孔質(zhì)基板襯墊具有多個吸附微孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述移載機構(gòu)包括一第一方向線性位移機構(gòu)及一第二方向線性位移機構(gòu)，所述第一方向線性位移機構(gòu)設(shè)置于所述承載盤的下方，用于驅(qū)動所述承載盤相對于所述激光光源模組并沿著所述第一方向線性位移機構(gòu)的一長軸方向往復移動，所述第二方向線性位移機構(gòu)設(shè)置于所述第一方向線性位移機構(gòu)的下方，用于驅(qū)動所述第一方向線性位移機構(gòu)與所述承載盤一同相對于所述激光光源模組并沿著所述第二方向線性位移機構(gòu)的一長軸方向往復移動。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一集塵裝置，所述集塵裝置具有一鄰近于所述激光光源模組的吸氣口。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述延伸蝕刻長度不超過10μm。