[實用新型]一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置有效
| 申請號: | 201520729465.0 | 申請日: | 2015-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN204997529U | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發明(設計)人: | 黃曉波;杭魯濱;程武山;朱蓓;盧建偉;馮初鍔;方潛鋒 | 申請(專利權)人: | 上海工程技術大學 |
| 主分類號: | B24B55/02 | 分類號: | B24B55/02;B24B57/02;B24B37/34 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知識產權代理有限公司 31227 | 代理人: | 周兵 |
| 地址: | 201620 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙面 化學 機械 研磨 拋光 冷卻 裝置 | ||
1.一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,包括設于研磨拋光機構上的冷卻機構、調節系統和顯示控制系統,其特征在于:所述冷卻機構包括冷卻盤體,冷卻盤體的內部通過冷卻通道形成冷卻腔,冷卻通道包括內圈圓環形的通道和外圈環狀波浪形的通道。
2.根據權利要求1所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述研磨拋光機構包括上磨盤、下磨盤和下磨盤上的行星研磨部,上磨盤和下磨盤分別由電機無級調速驅動,上磨盤與加壓氣缸相連,行星研磨部包括中心齒輪、行星輪和外圈的大齒輪。
3.根據權利要求1所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述冷卻盤體設于下磨盤的下端,冷卻盤體上設有冷卻盤蓋,冷卻盤體和冷卻盤蓋通過螺釘相連,并且在連接處的冷卻盤體內的外圈上設有密封圈。
4.根據權利要求1所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述冷卻腔通過攔件依次由內圈向外圈分隔成圓環形的第一通道、第二通道和環狀波浪形的第三通道和第四通道,第一通道、第二通道、第三通道和第四通道依次相連形成迷宮狀的冷卻通道。
5.根據權利要求4所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述第一通道的首端開設有冷卻液進口;第四通道的末端開設有冷卻液出口。
6.根據權利要求5所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述冷卻液進口處和冷卻液出口處分別設有測溫機構。
7.根據權利要求1所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述調節系統包括第一調節部和第二調節部,第一調節部包括依次與冷卻液進口相連的比例閥、電磁閥、減壓閥、冷卻液泵和冷卻液箱,第二調節部包括流量計,冷卻液出口通過流量計與冷卻液箱相連,第一調節部和第二調節部通過旋轉接頭分別與冷卻液進口和冷卻液出口相連,減壓閥與冷卻液泵的連接處設有溢流閥。
8.根據權利要求1所述的一種晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置,其特征在于:所述顯示控制系統包括操作面板和上面的顯示面板。
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