[實(shí)用新型]成像裝置以及讀取晶圓激光標(biāo)記的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520692309.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-09-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204885101U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 段曉博;于建姝;牛剛;林立平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(天津)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/66 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 300385 天津市西青*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 裝置 以及 讀取 激光 標(biāo)記 | ||
1.一種成像裝置,其特征在于,包括支架、放大鏡、平面鏡以及承載框,所述平面鏡和所述放大鏡由上到下依次活動(dòng)連接在所述支架上,所述承載框位于所述放大鏡的下方,所述承載框上設(shè)置有若干用于支撐的凸桿。
2.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,所述承載框?yàn)樘菪谓Y(jié)構(gòu),體型結(jié)構(gòu)的兩側(cè)邊上設(shè)置有若干所述凸桿。
3.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,所述承載框還包括固定框,所述固定框與所述承載框的下底邊相連,所述承載框與地面之間成一傾斜角度。
4.如權(quán)利要求3所述的成像裝置,其特征在于,所述固定框與所述承載框的下底邊形成三角形結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求3所述的成像裝置,其特征在于,所述固定框與所述支架固定連接。
6.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,所述承載框兩側(cè)對(duì)應(yīng)形成有等間距的20個(gè)-30個(gè)凸桿。
7.如權(quán)利要求6所述的成像裝置,其特征在于,相鄰的所述凸桿之間的間距為5.0mm~7.0mm。
8.如權(quán)利要求6所述的成像裝置,其特征在于,每個(gè)所述凸桿對(duì)應(yīng)的所述承載框的側(cè)邊上形成有標(biāo)號(hào)。
9.如權(quán)利要求2-8中任意一項(xiàng)所述的成像裝置,其特征在于,所述梯形結(jié)構(gòu)下底邊的寬度小于299mm,所述梯形結(jié)構(gòu)的上底邊的寬度為10mm-100mm;或所述梯形結(jié)構(gòu)下底邊的寬度小于199mm,所述梯形結(jié)構(gòu)的上底邊的寬度為10mm-100mm。
10.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,所述成像裝置還包括一日照燈,所述日照燈連接在所述放大鏡和所述平面鏡之間的所述支架上。
11.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,所述放大鏡的放大倍數(shù)為10-20倍。
12.一種讀取晶圓激光標(biāo)記的裝置,其特征在于,采用如權(quán)利要求1-11中任意一項(xiàng)所述的成像裝置,所述承載框上設(shè)置有若干用于支撐所述晶圓的凸桿,所述晶圓的激光標(biāo)記經(jīng)過(guò)所述放大鏡放大并成像在所述平面鏡上。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于中芯國(guó)際集成電路制造(天津)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司,未經(jīng)中芯國(guó)際集成電路制造(天津)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520692309.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
- 預(yù)測(cè)裝置、編輯裝置、逆預(yù)測(cè)裝置、解碼裝置及運(yùn)算裝置
- 圖像形成裝置、定影裝置、遮光裝置以及保持裝置
- 打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置以及打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置的控制方法
- 電子裝置、光盤(pán)裝置、顯示裝置和攝像裝置
- 光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法
- 用戶(hù)裝置、裝置對(duì)裝置用戶(hù)裝置、后端裝置及其定位方法
- 遙控裝置、通信裝置、可變裝置及照明裝置
- 透鏡裝置、攝像裝置、處理裝置和相機(jī)裝置
- 抖動(dòng)校正裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、成像裝置、和電子裝置
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開(kāi)參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶(hù)秘密密鑰生成裝置以及查詢(xún)發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開(kāi)參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶(hù)秘密密鑰生成方法以及查詢(xún)發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書(shū)信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書(shū)架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





