[實用新型]治理合成革廢氣的裝置有效
| 申請號: | 201520493832.1 | 申請日: | 2015-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN204973576U | 公開(公告)日: | 2016-01-20 |
| 發明(設計)人: | 雷樂成;陳杰;何炬平 | 申請(專利權)人: | 浙江浙大環境工程有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/86 | 分類號: | B01D53/86;B01D53/72;B01D53/75;B01D50/00 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310007 浙江省杭州市西*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 治理 合成革 廢氣 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及化工吸附分離和污染物控制技術領域,尤其涉及一種治理合成革廢氣的裝置。
背景技術
近年來,國內大面積爆發灰霾天氣的次數和持續時間逐年增加,嚴重影響國民身體健康和生活質量。灰霾危害大,影響范圍廣,已成為當今影響中國大氣環境質量的主要問題之一,也是當下百姓最為關注的大氣環境問題。
工業揮發性有機污染物(VOCs)、氮氧化物、二氧化硫、機動車尾氣的大量排放是灰霾形成的主要原因。國內工業粉塵、二氧化硫和氮氧化物均已出臺嚴格的標準來控制排放。VOCs的治理相對滯后,但已引起高度重視。《重點區域大氣污染防治“十二五”規劃》規定石化、化工、噴涂、印刷、紡織印染、皮革加工、制鞋、人造板生產、日化、食品加工等行業需開展VOCs收集與凈化處理,凈化率不小于90%。
合成革、人造革加工過程中會產生大量的有機廢氣,其中有機溶劑往革基布上印刷過程中產生的廢氣主要成份為二甲基甲酰胺(DMF),其他還有甲苯(TOL)、丁酮(MEK)等,該廢氣若不經治理排入大氣,將會嚴重污染大氣環境。因此在各行各業開展“治霾”行動的大背景下,開發經濟、有效、安全、穩定的人造革三版印刷廢氣治理技術刻不容緩。
公開號為CN204193748U的中國專利文獻中公開了一種治理印刷、廣告業有機廢氣的一體化裝置,包括廢氣收集系統、廢氣吸附凈化系統、氣流均勻化系統、檢修更換系統與排放控制系統。但該一體化裝置針對合成革廢氣存在去除率達不到處理要求等問題。
實用新型內容
本實用新型公開了一種合成革廢氣的治理裝置,利用合成革廢氣中各成分的物化性質的區別,分別采用吸收法、光電一體化等技術分段去除廢氣中的有害成分,達到直接排放的目的。
一種治理合成革廢氣的裝置,包括依次連通的DMF吸收塔、除霧器、光電一體化設備、旋流板吸收塔和排氣筒;
所述DMF吸收塔具有通入合成革廢氣的進風口;
DMF吸收塔的出口與除霧器入口通過第一風管連通;
旋流板吸收塔的出口與排氣筒入口通過第二風管連通;
光電一體化設備包括外殼和依次布置在在外殼內的過濾段、光催化段、放電處理段和活性炭吸收段,其中過濾段一側與除霧器的出口對接,活性炭吸收段一側與旋流板吸收塔的入口對接。
合成革廢氣經收集后首先經進風口進入DMF吸收塔,吸收DMF及部分VOCs。吸收完畢后經第一風管通入除霧器中,去除由DMF吸收塔中帶出的部分水汽和未處理完全的固態顆粒物后,直接進入光電一體化設備。在光電一體化設備中首先經過濾段,經機械過濾初步去除除霧器未去除完全的顆粒物,然后分別與光催化段、放電處理段中,在等離子體和光催化耦合產生的高能電子、羥基自由基、氧自由基、臭氧等高活性粒子發生反應,將廢氣中的VOCs分子(如乙酸丁酯、乙酸乙酯、苯、甲苯、二甲苯、甲醛等)最終降解為二氧化碳和水,此過程可能形成部分氣溶膠;最后經活性炭吸收段,吸附未降解完全的部分VOCs分子和臭氧等活性粒子,吸附的VOCs分子和臭氧等活性粒子會繼續反應,從而實現活性炭吸附和再生同時進行。經光電一體化設備處理后的廢氣進入旋流板吸收塔,在吸收液作用下,去除少量氣溶膠。最后在離心風機的作用下,經前述多個設備處理后的廢氣進入排氣筒中,最終經高空排放至大氣中。
作為優選,所述的DMF吸收塔包括塔殼以及由下至上安裝在塔殼內至少兩級吸收單元,每個吸收單元自上而下依次包括吸收液噴管、液體分布器和不銹鋼填料。
作為優選,相鄰的吸收單元之間設有升氣板。
進一步優選,所述的塔殼由304不銹鋼制成,所述的吸收單元為三級,第一級吸收單元采用的吸收液為10%DMF溶液,第二級吸收單元采用的吸液為5%DMF溶液,第三級吸收單元采用的吸收液為清水,以保證合成革廢氣中DMF的吸收完全。且當第一級吸收單元中,吸收液中的DMF濃度達到15%時,將吸收液送往精餾塔用于回收DMF,還可以實現DMF的再生回收。
所述的除霧器外殼由不銹鋼制成,作為優選,所述的除霧器內設有不銹鋼絲網。
作為優選,所述的光電一體化設備中:
過濾段內設有不銹鋼絲網;
光催化段內設有紫外燈以及負載型鋁基二氧化鈦,所述的紫外燈采用低壓汞燈,波長為189~254nm;
放電處理段內設有放電電極;
活性炭吸收段內設有活性炭填料。
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