[實用新型]用于防止晶片背面污染的顯影裝置有效
| 申請號: | 201520490912.1 | 申請日: | 2015-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN204903943U | 公開(公告)日: | 2015-12-23 |
| 發明(設計)人: | 金海猷;魏明德 | 申請(專利權)人: | 徐州同鑫光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 徐州支點知識產權代理事務所(普通合伙) 32244 | 代理人: | 張榮亮 |
| 地址: | 221000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 防止 晶片 背面 污染 顯影 裝置 | ||
1.一種用于防止晶片背面污染的顯影裝置,包括旋轉真空吸柱(1)、晶片(2)、內部旋轉擋板(3)和護圈(4),晶片(2)水平放置在旋轉真空吸柱(1)的正上方,內部旋轉擋板(3)布置在晶片(2)的下方位于旋轉真空吸柱(1)外側,護圈(4)安裝在內部旋轉擋板(3)與晶片(2)之間,其特征在于,所述內部旋轉擋板(3)可上下左右移動的安裝在旋轉真空吸柱(1)外側,通過移動內部旋轉擋板(3)可調整內部旋轉擋板(3)與晶片(2)之間的間隙,防止涂抹在晶片(2)表面的顯影液流到背面,減少對晶片(2)、內部旋轉擋板(3)及旋轉真空吸柱(1)造成的污染。
2.根據權利要求1所述的一種用于防止晶片背面污染的顯影裝置,其特征在于,所述護圈(4)安裝在內部旋轉擋板(3)上,與內部旋轉擋板(3)一起上下左右移動。
3.根據權利要求1所述的一種用于防止晶片背面污染的顯影裝置,其特征在于,所述內部旋轉擋板(3)通過上下左右調節裝置安裝在旋轉真空吸柱(1)外側,所述上下左右調節裝置包括立板和橫板,所述立板安裝在橫板的導軌內,所述立板和橫板均為伸縮式安裝板,通過立板的伸縮實現內部旋轉擋板(3)的上下移動,通過橫板的伸縮實現內部旋轉擋板(3)的左右移動。
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