[實(shí)用新型]X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520477216.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-07-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204855411U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳金杰;李論;王玉龍;陳法君 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N23/00 | 分類(lèi)號(hào): | G01N23/00 |
| 代理公司: | 北京億騰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 11309 | 代理人: | 陳霽 |
| 地址: | 100029 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 標(biāo)準(zhǔn) 檢測(cè) 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械裝置,尤其涉及一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)是指一套利用X射線對(duì)被測(cè)物進(jìn)行檢測(cè)的裝置,常用于工業(yè)無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域。
在進(jìn)行被測(cè)物檢測(cè)時(shí),需要被測(cè)物非常精準(zhǔn)的放置在X射線束的出束位置上,在X軸、Y軸和Z軸方向都需要精確調(diào)整。
但現(xiàn)有的設(shè)備的調(diào)整過(guò)程復(fù)雜,很難通過(guò)簡(jiǎn)單操作就實(shí)現(xiàn)X射線束主軸,限束光闌中心及被檢測(cè)物體的同軸,尤其是在被測(cè)物放置于較長(zhǎng)導(dǎo)軌上行程可變情況下,更是不易實(shí)現(xiàn),無(wú)法保證其處于X射線光束中心,因而會(huì)影響到檢測(cè)效果和準(zhǔn)確度;同時(shí),現(xiàn)有設(shè)備不便于進(jìn)行X射線管及被測(cè)物的位置調(diào)整,在使用過(guò)程中更換被測(cè)物,或發(fā)生震動(dòng)、碰撞等原因造成位置改變后,需要很復(fù)雜的操作才能進(jìn)行位置復(fù)位。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng),從而實(shí)現(xiàn)方便和精確的X射線源到被測(cè)物的X射線出射調(diào)整。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng),所述X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)包括:
X射線發(fā)生裝置,固定在光學(xué)平臺(tái)上,產(chǎn)生水平出射的X射線束;
擋板,由支架和固定在所述支架中的鉛板構(gòu)成,屏蔽X射線管產(chǎn)生的X射線光子主束方向的漏射線,所述擋板上具有X射線束的出射孔,形成光闌;
快門(mén),固定在所述光學(xué)平臺(tái)上,并設(shè)置在所述擋板的X射線束射出方向一側(cè);所述快門(mén)包括:具有通孔的擋板和可移動(dòng)的遮光片;所述通孔的中心、所述光闌的中心、所述X射線束的中心在同一直線上;當(dāng)所述遮光片遮擋在所述通孔上時(shí),所述快門(mén)閉合;當(dāng)所述遮光片從所述通孔上移開(kāi)時(shí),所述快門(mén)打開(kāi),使所述X射線束由所述通孔出射;
過(guò)濾裝置,固定在所述光學(xué)平臺(tái)上,并設(shè)置在所述快門(mén)的X射線束射出方向一側(cè),包括以所述通孔為中心位置對(duì)稱(chēng)設(shè)置的兩組濾波轉(zhuǎn)盤(pán);每組濾波轉(zhuǎn)盤(pán)包括N個(gè)濾光孔,所述N為大于1的正整數(shù),所述濾光孔中夾設(shè)有濾光片;當(dāng)所述濾波轉(zhuǎn)盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí),沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有兩個(gè)濾光孔同時(shí)與所述通孔位置相對(duì)準(zhǔn),使所述X射線束由所述濾光孔中的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射;
導(dǎo)軌平臺(tái),設(shè)置在所述光學(xué)平臺(tái)的X射線束出束方向的一側(cè),包括:導(dǎo)軌和在所述導(dǎo)軌上平行移動(dòng)的測(cè)量檢定平臺(tái);調(diào)整所述測(cè)量檢定平臺(tái),使放置于所述測(cè)量檢定平臺(tái)上的待檢物的中心與所述X射線束的中心相重合。
優(yōu)選的,所述系統(tǒng)還包括:
監(jiān)督電離室,固定在所述光學(xué)平臺(tái)上,并設(shè)置在所述過(guò)濾裝置的X射線束射出方向一側(cè),對(duì)所述X射線束的劑量進(jìn)行測(cè)量。
優(yōu)選的,在每組濾波轉(zhuǎn)盤(pán)中,除一個(gè)濾光孔外,其余(N-1)個(gè)濾光孔中夾設(shè)有濾光片;
其中,一組濾波轉(zhuǎn)盤(pán)的未夾設(shè)濾光片的濾光孔與所述通孔位置對(duì)準(zhǔn),當(dāng)另一組濾波轉(zhuǎn)盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí),沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有一個(gè)夾設(shè)有濾光片的濾光孔與所述未夾設(shè)濾光片的濾光孔以及通孔的位置相對(duì)準(zhǔn),使所述X射線束由所述另一組濾波轉(zhuǎn)盤(pán)的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述濾光孔的直徑不小于所述通孔的直徑。
優(yōu)選的,所述X射線發(fā)生裝置包括X射線光管和光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu);
所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定在所述光學(xué)平臺(tái)上,所述X射線光管安裝在所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的安裝面上;調(diào)整所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的安裝面,使所述X射線光管發(fā)出的X射線束沿所述測(cè)量檢定平臺(tái)在所述導(dǎo)軌上的移動(dòng)方向水平射出。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括:
橫向?qū)к墸怪彼鰮醢灏惭b在所述光學(xué)平臺(tái)上;
旋轉(zhuǎn)平臺(tái),滑設(shè)在所述橫向?qū)к壣希谒龉鈱W(xué)平臺(tái)上橫向移動(dòng),并在平行所述光學(xué)平臺(tái)的平面上進(jìn)行角度旋轉(zhuǎn);
縱向調(diào)節(jié)架,安裝在所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上,調(diào)整所述縱向調(diào)節(jié)架,使所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端到所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)之間的垂直距離發(fā)生改變;
光管固定器,安裝在所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端,固定提供X射線束的X射線管;
通過(guò)調(diào)節(jié)所述縱向調(diào)節(jié)架的高度,調(diào)整所述X射線束的出射高度,并且通過(guò)調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)角度,調(diào)整所述X射線束的出射角度,使所述X射線管的中心與所述出射孔的中心對(duì)準(zhǔn);通過(guò)調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)在所述橫向?qū)к壣系奈恢茫{(diào)整所述X射線管與所述出射孔之間的距離。
優(yōu)選的,移動(dòng)基座,包括:
第一底座,平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上,由第一電機(jī)控制,沿平行導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng);
滑軌,安裝在所述第一底座上,與所述導(dǎo)軌方向垂直;
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G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
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