[實用新型]半導體檢測設備內部凈化裝置

有效

• 申請號: 201520474946.1
• 申請日: 2015-06-30
• 公開（公告）號: CN204885092U
• 公開（公告）日: 2015-12-16
• 發明（設計）人: 張帆
• 申請（專利權）人: 張帆
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;G01N15/00
• 代理公司: 北京高航知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 趙永強

1.半導體檢測設備內部凈化裝置，包括設備容腔，其特征在于，還包括鋁鋰合金片、觸動元件、反饋控制組件和收集板；所述鋁鋰合金片安裝于所述設備容腔內部；所述觸動元件連接所述鋁鋰合金片，并提供能源予鋁鋰合金片；所述反饋控制組件包括傳感器和控制器，所述傳感器安裝于設備容腔內部，監測設備容腔內部狀況，所述控制器分別連接傳感器與觸動元件，其接收傳感器反饋信息并控制觸動元件；所述收集板設于設備容腔內并與鋁鋰合金片的位置相對。

2.根據權利要求1所述半導體檢測設備內部凈化裝置，其特征在于，所述傳感器包括檢測殘余微粒的殘余物傳感器和測量鋁鋰合金片溫度的溫度傳感器。

3.根據權利要求1所述半導體檢測設備內部凈化裝置，其特征在于，還包括冷卻裝置，所述冷卻裝置連接所述收集板。

4.根據權利要求1或3所述半導體檢測設備內部凈化裝置，其特征在于，還包括可移動擋板，所述可移動擋板設置于鋁鋰合金片與收集板之間，關閉或開啟鋁鋰合金片與收集板之間的通道。

5.根據權利要求1所述半導體檢測設備內部凈化裝置，其特征在于，所述設備容腔內部氣壓低于設備容腔外的大氣壓。

6.根據權利要求1所述半導體檢測設備內部凈化裝置，其特征在于，所述設備容腔還設有進氣口和出氣口，所述進氣口與出氣口設于設備容腔的表面，于設備容腔內部進氣口與出氣口之間形成氣體流動通道；所述設備容腔外設有真空泵，通過進氣口、出氣口與氣體流動通道控制設備容腔內部氣壓。