[實用新型]發光按鍵結構有效
| 申請號: | 201520460557.3 | 申請日: | 2015-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN204792567U | 公開(公告)日: | 2015-11-18 |
| 發明(設計)人: | 楊淞富;侯柏均 | 申請(專利權)人: | 蘇州達方電子有限公司;達方電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H13/83 | 分類號: | H01H13/83 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215011 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 按鍵 結構 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種發光按鍵結構,且特別是有關于一種具有蓋體的發光按鍵結構。
背景技術
鍵盤在使用上容易接收到手指的靜電。靜電會受到最靠近鍵帽的電子元件的吸引,而破壞此電子元件及與其電性連接的元件,如電路板等,因此導致元件的毀損。此外,鍵盤完成后,進行靜電測試時,靜電容易經由鍵盤的發光元件傳輸至薄膜開關層,因而導致薄膜開關層及與其電連接的部件的破壞。因此,亟需提出一種可疏導靜電的解決方案。
實用新型內容
為了解決上述問題,本實用新型提出一種發光按鍵結構,可將靜電疏導至接地電位,避免靜電造成電路元件的破壞。
為此,本實用新型提出一種發光按鍵結構,該發光按鍵結構包括金屬底板、鍵帽、薄膜開關層以及蓋體。金屬底板包括折彎部;鍵帽具有透光區,該鍵帽設置于該金屬底板上且該鍵帽可相對該金屬底板上下運動;薄膜開關層設置于該鍵帽與該金屬底板之間;發光元件與該薄膜開關層的線路連接,且該發光元件鄰近該折彎部;蓋體用以蓋住該發光元件,且該蓋體包括突出部以及裙邊,突出部具有出光孔,該出光孔對應該發光元件及該透光區;裙邊連接于該突出部且該裙邊具有貫孔,該折彎部穿過該貫孔。
作為可選的技術方案,該裙邊平貼于該薄膜開關層上。
作為可選的技術方案,該折彎部包括相連接的第一折部與第二折部,該第一折部經由該貫孔突出超過該裙邊的上表面,而該第二折部沿該裙邊的該上表面延伸,且該發光元件鄰近該第二折部。
作為可選的技術方案,該第二折部沿該鍵帽的邊緣方向延伸。
作為可選的技術方案,該發光元件與該折彎部的間距介于0.6毫米至1.4毫米之間。
作為可選的技術方案,該金屬底板電性連接于接地電位。
作為可選的技術方案,該裙邊與該突出部為一體成形。
此外,本實用新型還提出另一種發光按鍵結構,該發光按鍵結構包括金屬底板、鍵帽、薄膜開關層、發光元件以及蓋體。金屬底板包括折彎部;鍵帽具有透光區,該鍵帽設置于該金屬底板上且該鍵帽可相對該金屬底板上下運動;發光元件與該薄膜開關層的線路連接,且該發光元件鄰近該折彎部;蓋體用以蓋住該發光元件,且該蓋體包括突出部以及裙邊,突出部具有出光孔,該出光孔對應該發光元件及該透光區;裙邊具有上表面,該折彎部從該裙邊外延伸至該裙邊的該上表面。
作為可選的技術方案,該裙邊平貼于該薄膜開關層上。
作為可選的技術方案,該折彎部包括相連接的第一折部與一第二折部,該第一折部從該裙邊的外部延伸,而該第二折部沿該裙邊的該上表面延伸,且該發光元件鄰近該第二折部。
作為可選的技術方案,該第二折部沿該鍵帽的邊緣方向延伸。
作為可選的技術方案,該發光元件與該折彎部的間距介于0.6毫米至1.4毫米之間。
作為可選的技術方案,該金屬底板電性連接于一接地電位。
作為可選的技術方案,該裙邊與該突出部為一體成形。
本實用新型的發光按鍵結構,由于金屬底板包括折彎部且金屬底板電連接于接地電位,而發光元件鄰近折彎部設置,使鄰近發光元件的靜電可透過鄰近的折彎部疏導(放電)至接地電位。如此一來,可避免靜電破壞發光元件、薄膜開關層及與其電性連接的電子元件(如軟性電路板等)。
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型進行詳細描述,但不作為對本實用新型的限定。
附圖說明
圖1繪示依照本實用新型的一實施例的鍵盤的外觀示意圖;
圖2繪示圖1的鍵盤沿方向2-2’的剖視圖;
圖3繪示圖1的鍵帽的局部俯視圖;
圖4A繪示依照本實用新型的另一實施例的鍵盤的局部俯視圖;
圖4B繪示圖4A的鍵盤沿方向4B-4B’的剖視圖;
圖5A繪示依照本實用新型的又一實施例的鍵盤的局部俯視圖;
圖5B繪示圖5A的鍵盤沿方向5B-5B’的剖視圖。
具體實施方式
請參照第1及2圖,圖1繪示依照本實用新型的一實施例的鍵盤100的外觀示意圖,圖2繪示圖1的鍵盤100沿方向2-2’的剖視圖。鍵盤100包括金屬底板110、薄膜開關層120、復數個支撐機構130、復數個鍵帽140、復數個發光元件150及復數個蓋體160。為避免圖示過于復雜,圖2的支撐機構130、鍵帽140、發光元件150及蓋體160的數量僅繪示單個。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州達方電子有限公司;達方電子股份有限公司,未經蘇州達方電子有限公司;達方電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520460557.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:可固化組合物
- 下一篇:改性的異氰酸酯組合物及其制備方法





