[實(shí)用新型]氣體處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520390625.3
• 申請日: 2015-06-05
• 公開（公告）號: CN204816096U
• 公開（公告）日: 2015-12-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 封宗瑜;黃健;彭偉威;楊勇;肖德玲;肖利容;韋磊
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海格力電器股份有限公司
• 主分類號: B01D50/00
• 分類號: B01D50/00;B01D53/02;B01D53/72
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氣體處理裝置，包括：

氣體通道，供待處理的氣體流通；

環(huán)形過濾層(3)，設(shè)置在所述氣體通道中，可回轉(zhuǎn)運(yùn)動；

儲液部(8)，所述儲液部(8)用于存儲對所述環(huán)形過濾層(3)處理的液體，所述環(huán)形過濾層(3)經(jīng)由所述儲液部(8)內(nèi)存儲的液體通過；

其特征在于，還包括：

附著物脫離裝置，獨(dú)立于所述儲液部(8)設(shè)置，以使附著在所述環(huán)形過濾層(3)的附著物脫離在所述儲液部(8)之外。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述附著物脫離裝置包括對環(huán)形過濾層(3)擠壓的擠壓裝置(7)，所述擠壓裝置(7)對環(huán)形過濾層(3)擠壓以使附著在所述環(huán)形過濾層(3)的附著物脫離。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述氣體處理裝置包括：第一轉(zhuǎn)軸(1)和第二轉(zhuǎn)軸(4)，分別設(shè)在環(huán)形過濾層(3)的第一端和第二端；

所述環(huán)形過濾層(3)的第一端設(shè)置在所述儲液部(8)內(nèi)；

所述環(huán)形過濾層(3)的第二端設(shè)置在所述儲液部(8)的外部；

所述擠壓裝置(7)包括主軸，所述主軸與對應(yīng)于所述環(huán)形過濾層(3)的第二端設(shè)置，與所述第二轉(zhuǎn)軸(4)擠壓所述環(huán)形過濾層(3)以使所述附著物脫離。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述氣體處理裝置還包括驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置帶動所述環(huán)形過濾層(3)由所述環(huán)形過濾層的迎風(fēng)面向所述附著物脫離裝置方向回轉(zhuǎn)運(yùn)動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體處理裝置，其特征在于，

還包括附著物回收裝置(6)，所述附著物回收裝置(6)對應(yīng)于所述附著物脫離裝置設(shè)置并回收從所述環(huán)形過濾層(3)脫離的附著物；

所述附著物回收裝置(6)與所述儲液部(8)之間設(shè)有連通通道(2)，所述連通通道(2)上設(shè)有過濾裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述附著物回收裝置(6)設(shè)置的位置高于所述儲液部(8)；

所述環(huán)形過濾層(3)傾斜設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體處理裝置，其特征在于，

在所述附著物回收裝置(6)內(nèi)設(shè)有電解片或加入催化劑，以對脫離的附著物凈化處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述儲液部(8)內(nèi)設(shè)有超聲波模塊(9)或噴淋模塊，以將未脫離所述環(huán)形過濾層(3)的附著物從所述環(huán)形過濾層(3)脫離；

所述儲液部(8)底部還設(shè)有將所述儲液部(8)內(nèi)的液體排出的排出閥。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述環(huán)形過濾層(3)為設(shè)有毛細(xì)結(jié)構(gòu)的濕膜，所述濕膜的外表面設(shè)有茸毛。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理裝置，其特征在于，

所述儲液部(8)儲存的液體為水、光觸媒溶液、植物萃取液或甲醛吸收液。