[實用新型]可降低被測物表面反光的三維測量系統

有效

• 申請號: 201520347991.0
• 申請日: 2015-05-26
• 公開（公告）號: CN204902786U
• 公開（公告）日: 2015-12-23
• 發明（設計）人: 陳昌科
• 申請（專利權）人: 東莞市盟拓光電科技有限公司
• 主分類號: G01B11/25
• 分類號: G01B11/25
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 陳健

1.一種可降低被測物表面反光的三維測量系統，包括圖像分析及控制系統、投影機及相機；

所述圖像分析及控制系統用于控制所述投影機產生結構光；

所述投影機用于從第一方向將所述結構光投射到被測物表面，在被測物表面形成變形結構光圖案；

所述圖像分析及控制系統還用于通過所述相機從第二方向采集所述變形結構光圖案，并對所述變形結構光圖案進行分析，以獲取被測物表面的深度信息；其特征在于，所述投影機包括第一圓偏振器；所述結構光通過所述第一圓偏振器形成圓偏振的結構光后被投射到被測物表面；

所述相機的鏡頭前端安裝有第二圓偏振器；所述第二圓偏振器用于消除進入所述相機的光線中的非圓偏振光成分；

所述第一圓偏振器與第二圓偏振器同為左旋圓偏振器或右旋圓偏振器。

2.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述第一圓偏振器包括第一線偏振片及四分之一波片；

所述結構光依次通過所述第一線偏振片及四分之一波片后形成圓偏振的結構光。

3.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述第一方向與所述第二方向成30度角。

4.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述結構光為相移數字條紋光或莫爾條紋光。

5.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述投影機為LCOS投影機或DLP投影機。

6.如權利要求5所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述LCOS投影機包括LED光源、光學透鏡組、第二線偏振片、LCOS、聚光鏡；

所述LED光源產生白光；

所述白光通過所述光學透鏡組后形成面光源；

所述面光源通過所述第二線偏振片后投射到所述LCOS上；

所述LCOS在所述圖像分析及控制系統的控制下反射所述面光源，形成所述結構光；

所述結構光通過所述第一圓偏振器形成圓偏振的結構光；

所述圓偏振的結構光通過所述聚光鏡聚光后被投射到被測物表面。

7.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述相機的鏡頭為遠心鏡頭。

8.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述圖像分析及控制系統包括計算機系統。

9.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述第二圓偏振器為一圓偏振片。

10.如權利要求1所述的可降低被測物表面反光的三維測量系統，其特征在于，所述投影機與所述相機連接，還用于將所述結構光投射到被測物表面的同時，通過同步信號觸發所述相機同步對所述被測物表面進行曝光，以采集所述變形結構光圖案。