[實用新型]一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體有效
| 申請號： | 201520316108.1 | 申請日： | 2015-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN204575880U | 公開（公告）日： | 2015-08-19 |
| 發明（設計）人： | 朱錦鋒;白彥強;蔡藝軍;劉海;柳清伙 | 申請（專利權）人： | 廈門大學 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 馬應森 |
| 地址： | 361005 *** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 納米 壓印 工藝 可見 紅外光 吸收體 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體，其特征在于為3層結構，從下至上依次為襯底、金屬層和介電層，在介電層上設有金屬微納陣列。
2.如權利要求1所述一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體，其特征在于所述襯底采用單面拋光硅片。
3.如權利要求1所述一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體，其特征在于所述金屬層采用金層或銀層。
4.如權利要求1或3所述一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體，其特征在于所述金屬層的厚度大于100nm。
5.如權利要求1所述一種基于納米壓印工藝的可見與近紅外光吸收體，其特征在于所述介電層的厚度為10～50nm。
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