[實用新型]一種CIGS基薄膜太陽能電池有效
| 申請號: | 201520140537.8 | 申請日: | 2015-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN204441296U | 公開(公告)日: | 2015-07-01 |
| 發明(設計)人: | 李藝明;田宏波 | 申請(專利權)人: | 廈門神科太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0392 | 分類號: | H01L31/0392 |
| 代理公司: | 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204 | 代理人: | 張松亭 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 cigs 薄膜 太陽能電池 | ||
技術領域
本實用新型涉及薄膜太陽能電池技術領域,特別是一種具有黃銅礦結構的銅銦鎵硒(硫)薄膜太陽能電池。
背景技術
隨著全球氣候變暖、生態環境惡化和常規能源的短缺,越來越多的國家開始大力發展太陽能利用技術。太陽能光伏發電是零排放的清潔能源,具有安全可靠、無噪音、無污染、資源取之不盡、建設周期短、使用壽命長等優勢,因而備受關注。銅銦鎵硒是一種直接帶隙的P型半導體材料,其吸收系數高達105/cm,2um厚的銅銦鎵硒薄膜就可吸收90%以上的太陽光。CIGS薄膜的帶隙從1.04eV到1.67eV范圍內連續可調,可實現與太陽光譜的最佳匹配。銅銦鎵硒薄膜太陽電池作為新一代的薄膜電池具有成本低、性能穩定、抗輻射能力強、弱光也能發電等優點,其轉換效率在薄膜太陽能電池中是最高的,目前實驗室的轉化率已超過20%。
傳統的CIGS基薄膜太陽能電池的結構依次為:基底、Mo背電極層、CIGS光吸收層、CdS緩沖層、本征ZnO層、AZO透明導電窗口層?,F在業界大部分都是使用CdS作為CIGS基薄膜太陽能電池的緩沖層,為了使電池獲得較高的開路電壓,一般CdS膜的厚度至少要為50nm以上,而較厚的CdS膜的生成必然產生更多的含鎘廢水,對含鎘廢水的處理就增加了制造成本,同時CdS膜較厚時會使薄膜電池的短路電流降低。若將CdS緩沖層的厚度減薄,可增加短路電流,同時開路電壓也降低,也會增加電池的內部泄漏,這將使電池的轉換效率降低。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種CIGS基薄膜太陽能電池,該電池在制作過程可減少含鎘廢水的產生量,同時可增加電池的短路電流、開路電壓、提高電池的填充因子和減少電池的內部泄漏,從而提高電池的轉換效率。
為實現上述目的,本實用新型采用以下技術方案:一種CIGS基薄膜太陽能電池,包括一襯底,覆蓋襯底表面的背電極層,覆蓋背電極層的具有黃銅礦結構的光吸收層,覆蓋光吸收層的CdS:Mg緩沖層,覆蓋CdS:Mg緩沖層的本征氧化鋅膜層,覆蓋本征氧化鋅膜層的具有高電阻率的摻雜氧化鋅膜層,覆蓋摻雜氧化鋅膜層的透明導電窗口層。在制作電池組件過程有三道刻劃工序,分別為P1、P2和P3刻劃,從而使組件的各個小電池串聯起來。
所述的本征氧化鋅膜層的電阻率不小于0.08Ωcm;所述的具有高電阻率的摻雜氧化鋅膜層,其電阻率不小于0.08Ωcm,同時不大于95Ωcm,該摻雜氧化鋅膜層為氧化鋅摻雜有B、Al、Ga或In中的至少一種元素,為現有技術;所述的摻雜氧化鋅膜層的電阻率要小于本征氧化鋅膜層的電阻率。所述的本征氧化鋅膜層和摻雜氧化鋅膜層可采用化學氣相沉積、真空磁控濺射沉積或金屬有機化學氣相沉積等。
所述的襯底可為玻璃、聚酰亞胺板、鋁薄板或不銹鋼板中的一種。所述的背電極層為Mo層、Ti層、Cr層或Cu層。所述的光吸收層為銅銦鎵硒、銅銦鎵硫、銅銦鎵硒硫、銅銦鋁硒、銅銦鋁硫、銅銦硫或銅銦硒。所述的透明導電窗口層選用ITO、AZO、GZO、IZO、FTO、ATO中的一種或幾種透明導電膜。
所述的CdS:Mg緩沖層為現有技術,其厚度小于40nm,優選的厚度小于30nm,更優選的厚度小于20nm。
所述在透明導電窗口層上可沉積減反射膜層,該減反射膜層可由一個膜層或多個膜層組成;在襯底和背電極層之間可插入一層阻擋襯底元素擴散的阻擋層,該阻擋層可為由硅、鋯和鈦中的至少一種元素與鉬組成的至少兩種元素的氧化物、氮化物或氮氧化物組成。
本實用新型通過在CIGS基薄膜電池的光吸收層上沉積較薄的CdS:Mg緩沖層,在CdS:Mg緩沖層上沉積本征氧化鋅膜層,在本征氧化鋅膜層上沉積具有高電阻率的摻雜氧化鋅膜層,可使電池在制作過程減少含鎘廢水的產生量,降低制造成本,同時可增加電池的短路電流、開路電壓、提高電池的填充因子和減少電池的內部泄漏,從而提高電池的轉換效率。
附圖說明
圖1為本實用新型的薄膜電池的結構示意圖。
圖2為本實用新型的薄膜電池的另一結構示意圖。
圖中,1-襯底?2-阻擋層?3-背電極層?4-光吸收層?5-CdS:Mg緩沖層?6-本征氧化鋅膜層?7-摻雜氧化鋅膜層?8-透明導電窗口層?9-減反射膜層
具體實施方式
下面結合具體實施例對本實用新型進行詳細說明。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





