[實(shí)用新型]用于無(wú)線通信系統(tǒng)的多層壓電薄膜體聲波諧振器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520070282.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204425293U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李慶文;張勇;王君;張延水;鄧華;蘇豪;鮑娌娜 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 國(guó)家電網(wǎng)公司;國(guó)網(wǎng)山東省電力公司煙臺(tái)供電公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03H9/17 | 分類(lèi)號(hào): | H03H9/17 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 無(wú)線通信 系統(tǒng) 多層 壓電 薄膜 聲波 諧振器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及無(wú)線通信領(lǐng)域,尤其涉及具有多層不同的壓電薄膜的壓電薄膜體聲波諧振器。
背景技術(shù)
隨著薄膜與微納制造技術(shù)的發(fā)展,電子元件正朝著微型化、高頻率、高密集復(fù)用和低功耗的方向發(fā)展;薄膜體聲波諧振器(FBAR)又稱(chēng)為壓電薄膜體聲波諧振器,它是通過(guò)壓電薄膜的逆壓電效應(yīng)將電能量轉(zhuǎn)換成聲波而形成諧振,使用諧振技術(shù)用來(lái)制造很多先進(jìn)的電子元器件,在新一代無(wú)線通信系統(tǒng)具有很廣泛的應(yīng)用前景。
傳統(tǒng)的FBAR包括一個(gè)壓電體層,壓電體層位于由單一材料制成的電極之間,構(gòu)成一個(gè)壓電夾層,由于這些壓電材料為單一性材料,因此這些壓電材料基本上具有單一、均勻的C軸取向特性;也即,傳統(tǒng)的FBAR的壓電材料不是使用不同的壓電物質(zhì)制成,因此沒(méi)有不同的C軸向取向。此外,傳統(tǒng)的FBAR的低頻共振頻率主要通過(guò)增加壓電層或電極的厚度來(lái)調(diào)節(jié),因此可能造成壓電體層或電極的厚度過(guò)度增加,致使FBAR的形狀過(guò)大,進(jìn)而會(huì)導(dǎo)致諧振器尺寸變大、制作過(guò)程繁雜和成本高。
實(shí)用新型內(nèi)容
針對(duì)上述問(wèn)題,本實(shí)用新型的目的是提供用于無(wú)線通信系統(tǒng)的多層壓電薄膜體聲波諧振器,解決過(guò)度增加壓電層和電極厚度,致使FBAR的形狀過(guò)大,進(jìn)而會(huì)導(dǎo)致諧振器尺寸變大、制作過(guò)程繁雜和成本高的技術(shù)問(wèn)題。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:用于無(wú)線通信系統(tǒng)的多層壓電薄膜體聲波諧振器,用DBAR表示,形成于襯底上,襯底與半導(dǎo)體工藝使用的材料相容,所述半導(dǎo)體工藝材料包括硅、砷化鎵、磷化銦、玻璃、藍(lán)寶石、氧化鋁或其他類(lèi)似材料;襯底可被蝕刻形成腔體,且一層犧牲材料可被沉積在襯底上以填充腔體,犧牲材料包括氧化物、多晶硅或其它合適的材料;襯底被平坦化后,犧牲材料仍然只留在腔體內(nèi);此外,犧牲材料在形成DBAR后可以通過(guò)刻蝕移除,以使腔體打開(kāi);所述DBAR包括底部電極、頂部電極、第三電極、第一壓電層、第二壓電層、第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線和第三導(dǎo)線。
底部電極形成于襯底的腔體上方,底部電極通過(guò)沉積于襯底上的一層鎢、鉬或鋁經(jīng)過(guò)圖案化成型而成,底部電極為一個(gè)多邊形或類(lèi)似的形狀;第一壓電層通過(guò)沉積于底部電極上的氮化鋁壓電材料制成,該氮化鋁材料通過(guò)等離子沉積處理沉積于底部電極上,圖案化成型后形成具有向上方向的C軸取向的第一壓電層;第三電極位于第一壓電層上,通過(guò)沉積于第一壓電層上的一層鎢、鉬或鋁經(jīng)過(guò)圖案化成型而成;第二電壓層位于第三電極上方,通過(guò)沉積于第三電極上的氧化鋅壓電材料制成,該氧化鋅壓電材料通過(guò)等離子沉積處理沉積于第三電極上,第二壓電層的C軸取為向上方向;第一壓電層和第二壓電層是不同的壓電材料制成的相對(duì)的壓電層;第一壓電層的C軸取向和第二壓電層的C軸取向完全相反;頂部電極通過(guò)沉積于第二壓電層上的一層鎢、鉬或鋁通過(guò)圖案化成型制成。因此,第一壓電層、第三電極、第二壓電層和頂部電極進(jìn)行圖案化成型處理后形成DBAR。在DBAR有一個(gè)用于保護(hù)DBAR的鈍化層;DBAR上形成對(duì)應(yīng)觸點(diǎn)、第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線和第三導(dǎo)線分別對(duì)應(yīng)地和底部電極、頂部電極和第三電極進(jìn)行電性連接;其中,第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線相互連接,以將底部電極和頂部電極進(jìn)行電性連接,第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線和第三導(dǎo)線有一個(gè)公共接點(diǎn),以將三個(gè)電極互相連接;第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線和第三導(dǎo)線上施加有電壓。第一壓電層在第一電極和第三電極間一同形成一個(gè)夾層結(jié)構(gòu);第二壓電層在第三電極和頂部電極間并一同形成另一個(gè)夾層結(jié)構(gòu);因此DBAR的結(jié)構(gòu)特性可表征為具有兩個(gè)單層結(jié)構(gòu)的FBAR,這兩個(gè)單層結(jié)構(gòu)的FBAR互相堆疊成型,且C軸取向的方向相反,從而DBAR的配置操作為1/2λ模型。
DBAR的底部電極、第一壓電體層、第三電極、第二壓電層和頂部電極的厚度分別一一對(duì)應(yīng)為1239nm、1800nm、1000nm、1432nm和1239nm;第一壓電層和第二壓電層的C軸取向相反,它們之間的共振頻率為350MHz。
綜上所述,DBAR可以在不減小其厚度情況下,擴(kuò)展其低頻率的范圍;也可以通過(guò)遞增第二壓電層使其具有和第一壓電層相反的C軸取向,使DBAR具有更低的共振頻率;而不需要增加整體厚度,即增加底部電極、第一壓電層、第三電極第二壓電層和頂部電極的厚度,以擴(kuò)展DBAR的低頻共振頻率。此外,過(guò)度增加DBAR的厚度,會(huì)導(dǎo)致諧振器尺寸變大、制作過(guò)程繁雜和成本高。因此,DBAR的共振頻率可以通過(guò)第一壓電層和第二壓電層的材料選擇或只通過(guò)第一壓電層和第二壓電層形成的C軸取向來(lái)控制。具有很強(qiáng)的實(shí)用性。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型示意圖。
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