[實用新型]一種觸摸屏用導電膜全自動老化箱

有效

• 申請號: 201520003526.5
• 申請日: 2015-01-06
• 公開（公告）號: CN204270736U
• 公開（公告）日: 2015-04-15
• 發明（設計）人: 繆真;李勇聰;張志中
• 申請（專利權）人: 深圳市信濠光電科技有限公司
• 主分類號: H01B13/00
• 分類號: H01B13/00;G06F3/041
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于觸摸屏技術領域，具體涉及一種觸摸屏用導電膜全自動老化箱。

背景技術

近年來，由于薄膜應用材料的發展，與ITO玻璃一樣，ITOF?ILM也越來越多的應用到了電子信息材料上，比如說應用在LCD、OLED顯示器基板上，觸摸屏上、探測電極上、顯示器模組的電磁屏蔽上等等。如何在這些產品的生產加工過程中，合理使用ITO?FILM材料，也慢慢為電子制造行業所重視。

ITO?FILM在正式上生產線使用之前，要預先進行一道調質處理工序，也就是很多觸摸屏廠家俗稱的“ITO?FILM老化”工序。這是因為目前最常用到的ITO?FILM的基材，是一層在上面進行過硬化層涂布處理過的PET膜，它的材質是polyethylene?terephthalate，中文名叫聚對苯二甲酸乙二醇酯，簡稱PET，它在較寬的溫度范圍內具有優良的物理機械性能，長期使用溫度可達120℃，電絕緣性優良，甚至在高溫高頻下，其電性能仍較好，抗蠕變性，耐疲勞性，耐摩擦性、尺寸穩定性都很好，但它有個特點，就是耐電暈性較差。

同時PET材料在提煉合成過程中，一定會有一些雜質摻雜在里面，PET合成的過程，是一個小分子物質在化學鍵的作用下鏈接形成大分子的過程，這個過程中肯定有些未充分反應的小分子物質附在大分子鏈上。PET膜在空氣存放過程中，因PET膜層里面所含的微量雜質，會吸收空氣中的氣體和水分，并不斷水解其中部分沒聚合完全的水分子物質。這些雜質、氣體、水分，和未聚合完全的水分子水解后生成的物質，會在高溫中析出或重新聚合與結晶，讓ITO?FILM產生不一致的形變或性能變化，造成ITO?FILM上的圖形尺寸變化。

還有，PET材料雖然擁有很好的尺寸穩定性，但在制成PET薄膜的過程中，合成的PET大分子物質經過擠塑和拉伸，原來融熔狀態下自由伸展的分子團被迫在拉伸方向進行形變，以薄膜的厚度尺寸要求，所以內部聚集了部分內應力，這些內應力如果受到溫度上升的變化，也會因溫度升高，使PET內部分子活動的能力增強而釋放出來，在釋放的過程中，多數的PET大分子會在拉伸方向進行分子間距縮小調整，而非拉伸方向的部分分子支鏈會伸展到拉伸方向收縮后所形成的空間里面來。這一系列的變化，也將改變PET薄膜的外形尺寸。PET上的ITO層，是鍍膜溫度在80℃以下鍍覆的，膜層中多數是一些低價的銦錫氧化物，這些低價的銦錫氧化物，在高溫環境下或富氧環境下，還會繼續與氧氣反應，形成高價的銦錫氧化物，重新再次結晶。

所以，為了穩定ITO?FILM的性能，要對ITO?FILM進行加熱處理，預先進行一道調質處理即“ITO?FILM老化”工序。在加熱處理過程中，PET薄膜里面的雜質所吸收的氣體與水分將會析出，小分子物質水解后的產物，會重新脫水形成小分子物質，未完全聚合的小分子物質、重新脫水后形成小分子物質，薄膜拉伸過程中所斷裂的分子支鏈和短分子鏈，將會重新排列到自由伸展的大分子長鏈上，讓整個PET薄膜內部分子穩定下來，這樣，PET膜的外形尺寸也穩定下來了，大大減少了以后溫度變化對PET外形尺寸帶來的劇烈變化。而且在富氧的條件下，或加溫過程中，ITO層非結晶的低價銦錫氧化物再次與氧反應成高價銦錫氧化物重新結晶，所得到的結晶ITO層在以后使用過程中，只要溫度不超過目前的加溫溫度，也比原非結晶狀態的ITO層化學物理性能更加穩定。

在加溫調質處理過程中，第一步是要把溫度升到PET上的涂布的壓加力熱變形溫度，完全釋放和消除壓加力層的氣體、水分和內應力，同時PET本身基材中的水分、氣體和雜質，也通過壓加力和ITO層的分子間隙釋放部分出來。

第二步是加熱到壓加力的熱軟化溫度，這個溫度下，讓壓加力先均勻軟化，減少后面繼續加熱過程中PET在熱收縮變形的時候，因壓加力的抵抗產生變形阻力，因各部分收縮不一致引起翹曲。同時也讓部分基材中水解的物質分解并把水分完全汽化釋放。

第三步是加熱溫度設定到后續加工工序中所采用的最高加熱溫度，加了更加均勻和消除設備誤差，一般這個設定溫度還要在后續工工序中所采用的最高加熱溫度的基礎上，再增加10至15℃，這樣，不管以后你再怎么加熱，都不會讓ITO?FILM再產生過多的形變了。當然這個溫度最好不要超過180℃，因為在這個溫度下，壓加力材料會迅速劣化，并且有可能顏色會變黃，透過率也會下降。對于使用在不同場合下的復合薄膜來說，中間的光學膠層也屬于壓加力酸類，過高的溫度更容易使這些光學膠層性能劣化，因而一般建議溫度設在120到140℃之間，為了得到更好的調質效果，調質時間會相應的延長一倍時間左右。