[發明專利]一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法

在審

• 申請號: 201511028584.4
• 申請日: 2015-12-31
• 公開（公告）號: CN105624674A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 吳曉彤;方俊勇
• 申請（專利權）人: 奧特路（漳州）光學科技有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;C23C16/06;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10;G06F3/041
• 代理公司: 福州君誠知識產權代理有限公司 35211
• 代理人: 戴雨君

1.一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面從里到外依序設有第一膜層、第二膜層和第三膜層，所述第一膜層為ITO層，第一膜層的厚度為10-100nm；所述第二膜層為納米銀層，第二膜層的厚度為5-20nm；第三膜層為高硬度層，第三膜層的厚度為10-50nm。

2.根據權利要求1所述的一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏，其特征在于：所述納米銀層的膜材為銀的氧化物，并使用電子槍蒸鍍成型。

3.根據權利要求2所述的一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏，其特征在于：所述銀的氧化物為Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

4.根據權利要求1所述的一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏，其特征在于：所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并使用電子槍蒸鍍成型。

5.根據權利要求1所述的一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏，其特征在于：所述基板為樹脂或玻璃成型。

6.一種根據權利要求5所述殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏的制造方法，其特征在于：所述觸摸顯示屏的基板為樹脂成型時，所述制造方法具體包括以下步驟：

1）對基板的外表面進行清洗；

2）對基板的外表面進行鍍膜；

A、鍍第一膜層：

將真空鍍膜艙內的真空度調整至大于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空鍍膜艙內的溫度為50-70℃，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為1?/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第一膜層的膜材為ITO材料,形成ITO層；

B、鍍第二膜層：

保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70℃，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，其中第二膜層的膜材為銀的氧化物，在電子槍蒸鍍的作用下第二膜層的膜材的銀的氧化物蒸發后分解，以納米級單質銀的形式附著于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為1?/S，第二膜層最終形成后的厚度為5-20nm的薄層的納米銀層；其中所述銀的氧化物為Ag₂O、AgO或Ag₂O₃；

C、鍍第三膜層：

保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70℃，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為7?/S，第三膜層最終形成后的厚度為10-50nm，其中第三膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體,形成高硬度層。

7.根據權利要求6所述的一種殺菌防輻射的耐磨觸摸顯示屏的制造方法，其特征在于：所述步驟1）中，對基板清洗的具體方法如下：將基板放在真空腔內，用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。