[發明專利]光學器件和提供防困光學器件的方法

有效

• 申請號: 201511000922.3
• 申請日: 2015-12-28
• 公開（公告）號: CN105759333B
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: N·邁特爾;D·帕薩爾德;M·特希耶爾斯
• 申請（專利權）人: 依視路國際公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;G02C7/10;G02B1/10
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 姜利芳;楊曉光

1.一種光學器件，該光學器件包括眼鏡片，該眼鏡片包括：

-基底，該基底具有背面和正面，該背面指定為面向使用者的眼睛，以及

-在至少一個面上的至少一個外部干涉涂層，該至少一個外部干涉涂層是這樣使得它使能夠選擇性地反射到達該背面的光，其中對于在450nm與490nm之間范圍內波長的局部最大反射值為至少10％，

該光學器件進一步包括：

-在佩戴者的眼睛前方用于支撐該眼鏡片的框架，以及

-附接到該框架上的光源，該光源被定位并定向為朝向該至少一個外部干涉涂層發射光，這樣使得該光不直接照射眼睛并且使得由該光源發射的光至少部分地被該至少一個外部干涉涂層朝向眼睛反射。

2.根據權利要求1所述的光學器件，其中對于在400nm與420nm之間的范圍內的光的平均反射率是小于10％和/或對于在500nm與600nm之間的范圍內的光的平均反射率是小于10％。

3.根據權利要求1所述的光學器件，其中對于在420nm與440nm之間的范圍內的光的平均反射率是小于10％。

4.根據以上權利要求中任一項所述的光學器件，其中該至少一個外部干涉涂層的反射光譜包括集中在450nm與490nm之間的峰，該峰具有小于或等于100nm的半幅值全寬。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，其中該在450nm與490nm之間的范圍內的局部最大反射具有的反射值比具有430nm波長的光和/或具有500nm波長的光的反射值大至少兩倍。

6.根據權利要求5述的光學器件，其中該在450nm與490nm之間的范圍內的局部最大反射具有的反射值比具有430nm波長的光和/或具有500nm波長的光的反射值大四倍。

7.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，其中該至少一個外部干涉涂層包括具有高折射率的層以及具有低折射率的層，所述具有高折射率的層和所述具有低折射率的層各自具有在1nm到500nm范圍內的厚度，并且該至少一個外部干涉涂層的這些具有低折射率的層中的每一個包括一種選自下組的氧化物，該組在于氧化硅，氟化鎂，ZrF₄AlF₃，錐冰晶石，冰晶石，以及它們的組合，結合有更高指數的材料，這些材料包括氧化鋁、氟、二氧化硅、或摻雜有氧化鋁的二氧化硅，并且該至少一個外部干涉涂層的這些具有高折射率的層的每一個包括選自下組的一種或多種金屬氧化物，該組包括氧化鋯，二氧化鈦，氧化鋁，五氧化二鉭，五氧化二釹，氧化鐠，氧化鈦酸鐠，氧化鑭，氧化鈮，氧化釔。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，其中該至少一個外部干涉涂層不存在于該至少一個外部干涉涂層位于其上的基底的面的整個表面上。

9.根據權利要求8所述的光學器件，該至少一個外部干涉涂層不存在于該眼鏡片的工作光學區的一部分上。

10.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，該至少一個外部干涉涂層存在于該眼鏡片的背面上。

11.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，其中該光源被定位并且定向為具有照射區域，該照射區域代表在該眼鏡片表面的工作光學區之外，在該光源發射的光與該基底的背面上的至少一個外部干涉涂層的表面相交時接收該光強度的60％的區域。

12.根據權利要求1至3中任一項所述的光學器件，其中該光源被定位并且定向為具有照射區域，該照射區域代表在該眼鏡片表面的工作光學區之外，在該光源發射的光與該基底的背面上的至少一個外部干涉涂層的表面相交時接收該光強度的80％的區域。