[發明專利]一種提高大面積微透鏡陣列均勻成形的方法

有效

• 申請號: 201510925176.2
• 申請日: 2015-12-11
• 公開（公告）號: CN105549129B
• 公開（公告）日: 2017-04-05
• 發明（設計）人: 王文君;孫學峰;梅雪松;崔健磊;王恪典;楊顯斌
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所61215
• 代理人: 賀建斌

1.一種提高大面積微透鏡陣列均勻成形的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)使用柱狀硅模具制備的反模具，經由熱壓印工藝，壓印表面覆蓋有具有熱塑性且能紫外固化的膠材料的玻璃基片，于室溫下自然冷卻后脫去反模具即獲得具有微米級柱狀陣列的樣片；

2)在玻璃容器中放入溫度計和掛架，加入去離子水至掛架的架面之上，將玻璃容器置于加熱板上，調節加熱板，以放入玻璃容器的溫度計為準，加熱水溫至膠材料熔融溫度的±15℃；

將樣片置于掛架上水浴加熱1-10min，取出樣片，用壓縮氮氣吹去樣片表面的水分，再經紫外曝光燈曝光至膠材料固化，即得到大面積均勻的微透鏡陣列。

2.根據權利要求1所述的一種提高大面積微透鏡陣列均勻成形的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)使用由PDMS澆灌直徑3μm、高度4μm、周期5μm的柱狀硅模具制備的反模具(1)，經由熱壓印工藝，加熱板(3)溫度設110℃，壓印力為1MPa，壓印表面覆蓋有mr-NIL 6000E納米壓印膠的玻璃基片(2)，壓印時間為20min，于室溫下自然冷卻后脫去反模具即獲得具有微米級柱狀陣列的樣片(4)；

2)在玻璃容器(5)中放入溫度計和掛架，加入去離子水至掛架的架面之上，將玻璃容器(5)置于加熱板(3)上，調節加熱板(3)，以放入玻璃容器(5)的溫度計為準，由于所用mr-NIL 6000E納米壓印膠的熔融溫度為60℃，將水溫調至55℃；

將樣片(4)置于掛架上水浴加熱1min,取出樣片(4)，用壓縮氮氣吹去樣片(4)表面的水分，放入功率為350mw的紫外曝光機曝光3min,得到大面積均勻的微透鏡陣列。

3.根據權利要求1所述的一種提高大面積微透鏡陣列均勻成形的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)使用由PDMS澆灌直徑3μm、高度4μm、周期5μm的柱狀硅模具制備的反模具(1)，經由熱壓印工藝，加熱板(3)溫度設110℃，壓印力為1MPa，壓印表面覆蓋有mr-NIL 6000E納米壓印膠的玻璃基片(2)，壓印時間為20min，于室溫下自然冷卻后脫去反模具即獲得具有微米級柱狀陣列的樣片(4)；

2)在玻璃容器(5)中放入溫度計和掛架，加入去離子水至掛架的架面之上，將玻璃容器(5)置于加熱板(3)上，調節加熱板(3)，以放入玻璃容器(5)的溫度計為準，由于所用mr-NIL 6000E納米壓印膠的熔融溫度為60℃，將水溫調至60℃；

將樣片(4)置于掛架上水浴加熱3min,取出樣片(4)，用壓縮氮氣吹去樣片(4)表面的水分，放入功率為350mw的紫外曝光機曝光3min,得到大面積均勻的微透鏡陣列。

4.根據權利要求1所述的一種提高大面積微透鏡陣列均勻成形的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)使用由PDMS澆灌直徑3μm、高度4μm、周期5μm的柱狀硅模具制備的反模具(1)，經由熱壓印工藝，加熱板(3)溫度設110℃，壓印力為1MPa，壓印表面覆蓋有mr-NIL 6000E納米壓印膠的玻璃基片(2)，壓印時間為20min，于室溫下自然冷卻后脫去反模具即獲得具有微米級柱狀陣列的樣片(4)；

2)在玻璃容器(5)中放入溫度計和掛架，加入去離子水至掛架的架面之上，將玻璃容器(5)置于加熱板(3)上，調節加熱板(3)，以放入玻璃容器(5)的溫度計為準，由于所用mr-NIL 6000E納米壓印膠的熔融溫度為60℃，將水溫調至65℃；

將樣片(4)置于掛架上水浴加熱5min,取出樣片(4)，用壓縮氮氣吹去樣片(4)表面的水分，放入功率為350mw的紫外曝光機曝光3min,得到大面積均勻的微透鏡陣列。