[發(fā)明專利]一種碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510864440.6
• 申請(qǐng)日: 2015-12-01
• 公開（公告）號(hào): CN105372266A
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周梅華;虞慧嫻;孫士文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
• 主分類號(hào): G01N21/956
• 分類號(hào): G01N21/956
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像裝置，包括樣品臺(tái)(1)、下底板(2)、左側(cè)擋板(3)、頂蓋(4)、右側(cè)擋板(5)、中間隔板(6)、光源(7)、電源開關(guān)(8)和電源總開關(guān)(9)，其特征在于：所述頂蓋(4)與中間隔板(6)上等間距分布若干螺孔，用于安裝光源(7)；所述框架頂蓋(4)上設(shè)置有若干電源開關(guān)(8)，該開關(guān)位置與光源(7)相互對(duì)應(yīng)；所述樣品臺(tái)(1)放置在下底板(2)上，可自由移動(dòng)；所述左側(cè)擋板(3)設(shè)有電源總開關(guān)(9)，與頂蓋上的電源開關(guān)(8)和光源(7)通過電線并聯(lián)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像裝置，其特征在于：所述樣品臺(tái)(1)材質(zhì)為有機(jī)玻璃。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像裝置，其特征在于：所述光源(7)為6個(gè)射燈，按照頂蓋長(zhǎng)度從左到右等間距安裝，調(diào)節(jié)射燈的角度，使每個(gè)射燈發(fā)出的光能夠均勻地照射到樣品臺(tái)(1)上。

4.一種基于權(quán)利要求1所述一種碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像裝置的碲鋅鎘晶片腐蝕形貌的快速成像方法，其特征在于方法步驟如下：

1)選擇樣品：取沿(111)面加工得到的碲鋅鎘晶片，對(duì)晶片表面進(jìn)行減薄拋光，得到一個(gè)鏡面的表面；

2)配置Everson腐蝕液：按乳酸：硝酸：氫氟酸體積比100:20:5配制Everson腐蝕液，攪拌均勻待用；

3)Everson腐蝕：將碲鋅鎘晶片(111)B面朝上浸入腐蝕液中，腐蝕150s，再用去離子水對(duì)晶片進(jìn)行清洗，用氮?dú)鈽尨蹈桑?/p>

4)調(diào)節(jié)射燈最佳光源：將腐蝕過的碲鋅鎘襯底放在樣品臺(tái)上，調(diào)整射燈的位置和角度，調(diào)試出均勻的面光源；

5)安裝微距架：將數(shù)碼相機(jī)安裝在特制的微距架上；

6)設(shè)置相機(jī)的各項(xiàng)參數(shù)：使用佳能G11數(shù)碼相機(jī)對(duì)目標(biāo)環(huán)境進(jìn)行測(cè)光，在手動(dòng)模式下，控制光圈及快門，進(jìn)而將ISO感光度調(diào)節(jié)為80；將測(cè)光模式設(shè)置為點(diǎn)測(cè)光，快門速度設(shè)置為1/160，白平衡設(shè)置為白熾燈，拍攝模式設(shè)置為微距；

7)拍照：在均勻的面光源照射下，調(diào)整碲鋅鎘晶片的位置，找到最佳的拍攝角度，對(duì)晶片進(jìn)行手動(dòng)聚焦，按下快門拍攝照片，從而記錄碲鋅鎘晶片表面的缺陷分布信息。