[發明專利]一種采用靜電噴射法制備致密薄膜的方法和設備在審
| 申請號： | 201510829620.0 | 申請日： | 2015-11-25 |
| 公開（公告）號： | CN105289946A | 公開（公告）日： | 2016-02-03 |
| 發明（設計）人： | 顧文華;許波晶;倪代紅;易武明 | 申請（專利權）人： | 南京理工大學 |
| 主分類號： | B05D1/04 | 分類號： | B05D1/04;B05B13/04 |
| 代理公司： | 南京理工大學專利中心 32203 | 代理人： | 朱顯國 |
| 地址： | 210094 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 采用 靜電 噴射 法制 致密 薄膜 方法 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種采用靜電噴射法制備薄膜的方法，其特征在于，采用至少兩個噴頭向同一個基底或收集裝置上噴射至少兩種先驅體，所述先驅體在基底或收集過程中相遇后進行化學反應生成薄膜。
2.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，所述噴頭同時向基底或收集裝置上噴射先驅體。
3.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，所述噴頭依次向基底或收集裝置上噴射先驅體。
4.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，在噴頭噴射先驅體的過程中移動噴頭的位置。
5.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，在噴頭噴射先驅體的過程中移動基底或收集裝置的位置。
6.根據權利要求1制備薄膜的方法，其特征在于，噴頭與基底或收集裝置的相對位置可調。
7.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，噴頭之間的間距可調。
8.根據權利要求1所述制備薄膜的方法，其特征在于，采用兩個噴頭分別正硅酸乙酯和去離子水。
9.一種采用靜電噴射法制備薄膜的設備，其特征在于，包括可三維移動的機械平臺；至少兩個靜電噴射用噴頭固定在機械平臺上，所述噴頭在機械平臺的帶動下在運動；所述噴頭用于分別盛裝不同的制備薄膜所需的先驅體。
10.根據權利要求9所述采用靜電噴射法制備薄膜的設備，其特征在于，噴頭之間的位置以及噴頭的運動軌跡可以調整。
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