[發明專利]一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法

在審

• 申請號: 201510810772.6
• 申請日: 2015-11-20
• 公開（公告）號: CN105349956A
• 公開（公告）日: 2016-02-24
• 發明（設計）人: 張俊喜;鐘慶東;肖軼;吳世權;史茜;舒明勇;韓洪波
• 申請（專利權）人: 江蘇尚大海洋工程技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所 31233
• 代理人: 黃志達

1.一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，包括：

將哈氏合金作為靶材，同時將低碳鋼作為基片置于基片架上，進行磁控濺射沉積，在低碳鋼表面沉積一層哈氏合金涂層；其中磁控濺射沉積過程中工作氣壓為0.1-0.18Pa，N₂流速為20-24mL/min，靶材由中頻脈沖電源控制，固定功率為350-400W，頻率為80-100kHz；沉積過程中，基片施加-90V的中頻脈沖偏壓，基片溫度控制為260-300℃，沉積時間為1-2h。

2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：所述哈氏合金為C-276哈氏合金；低碳鋼為Q235低碳鋼。

3.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：低碳鋼經超聲清洗，并用氮氣吹凈后置于基片架上。

4.根據權利要求3所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：所述超聲清洗為經過丙酮、乙醇和去離子水超聲清洗。

5.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：基片到靶材的距離為7-10cm。

6.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：磁控濺射沉積前背底真空小于8×10^-5Pa。

7.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：磁控濺射沉積前進行10-20min的預濺射來清理靶表面。

8.根據權利要求1所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：磁控濺射沉積過程中，樣品臺的轉速為12-18r/min。

9.根據權利要求8所述的一種磁控濺射制備耐酸堿納米哈氏合金涂層的方法，其特征在于：樣品臺的轉速為14r/min。