[發(fā)明專利]具有優(yōu)異批量生產(chǎn)能力和低摩擦特性的表面處理方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510740783.1
• 申請(qǐng)日: 2015-11-04
• 公開（公告）號(hào): CN105671497A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 洪雄杓;樸貞妍;崔光勛;金甫炅;呂寅雄;徐知延
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 現(xiàn)代自動(dòng)車株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C14/06
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;張燕

1.一種用于表面處理的方法，包括：

制備復(fù)合物，所述復(fù)合物包括鉻和銅復(fù)合物；以及

通過(guò)在含氮?dú)夥諝怏w中從所述復(fù)合物濺射而形成包括鉻、銅和氮 的涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述復(fù)合物包括95～98原 子％的鉻和2～5原子％的銅，所述原子％相對(duì)于所述復(fù)合物的原子總數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂層包括30～40原子％ 的鉻、2～5原子％的銅、和構(gòu)成所述涂層的原子余量的氮，所述原子％ 相對(duì)于所述涂層的原子總數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在形成所述涂層的過(guò)程中， 通過(guò)在含氬和含氮?dú)夥諝怏w中的非平衡閉合場(chǎng)磁控濺射，將鉻沉積為 Cr_xN_1-x，其中0.3≤x≤0.4。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述濺射在10～14W的濺 射功率下執(zhí)行。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述濺射在3×10^-3～4×10^-3mBar的壓力下執(zhí)行。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述濺射在100～150V的偏 壓下執(zhí)行。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述濺射在1:(3～5)的所述 氣氛氣體中的Ar:N₂比率執(zhí)行。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂層包括大小為10nm 或更小的納米粒子或納米晶。

10.一種涂層，通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法制備。

11.一種車輛部件，通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法制備。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的車輛部件，其中所述車輛部件為發(fā)動(dòng) 機(jī)驅(qū)動(dòng)部件。