[發明專利]一種在密閉高壓反應室中自動換樣的控制結構及自動換樣方法

在審

• 申請號: 201510737269.2
• 申請日: 2015-11-04
• 公開（公告）號: CN105259023A
• 公開（公告）日: 2016-01-20
• 發明（設計）人: 王孔偉;常德龍;鄧華鋒;李春波;李建林;胡安龍
• 申請（專利權）人: 三峽大學
• 主分類號: G01N3/02
• 分類號: G01N3/02
• 代理公司: 宜昌市三峽專利事務所 42103
• 代理人: 吳思高

1.一種在密閉高壓反應室中自動換樣的控制結構，包括工作臺升降機構、承盤旋轉機構、承盤定位機構，其特征在于，所述工作臺升降機構包括升降桿（3），升降桿（3）頂部設有支座（4），升降桿（3）連接驅動電機，所述驅動電機用于驅動升降桿（3）在壓力室內升降；所述承盤旋轉機構包括轉軸框架（19）、控制電機（6）、多層分布的承盤（7），每一個承盤（7）安裝在轉軸框架(19)上，承盤（7）可繞轉軸框架（19）和轉軸（5）轉動，轉軸框架（19）通過轉軸（5）連接控制電機（6）；每一個承盤（7）沿著外圓周分布有多個圓孔（18）和一個開口(17)，每一個圓孔(18)均配有一個放置試樣（9）的承臺（8）；沿著承盤（7）內圓周對應著多個圓孔（18）開設有定位孔（13）；所述承盤定位機構包括固定在壓力室頂部的第一定位桿（11）和底部的第二定位桿（20），第一定位桿（11）、第二定位桿（20）用于插入承盤（7）的定位孔（13）中來固定承盤（7）。

2.根據權利要求1所述一種在密閉高壓反應室中自動換樣的控制結構，其特征在于，所述第一定位桿（11）、第二定位桿（20）連接伺服電機，所述伺服電機、驅動電機、控制電機（6）均連接控制主機（16）。

3.根據權利要求1所述一種在密閉高壓反應室中自動換樣的控制結構，其特征在于，所述承盤（7）由上至下分為三層。

4.一種在密閉高壓反應室中自動換樣的方法，其特征在于包括以下步驟：

步驟1：首先通過控制電機（6）旋轉轉軸框架（19）和承盤（7），當第三層承盤的開口（17）對準升降桿（3）時，調節第二定位桿（20）以固定第三層承盤；然后繼續通過控制電機（6）旋轉轉軸框架（19）和第一、二層承盤，使第二層承盤的開口對準升降桿（3），并通過調節第二定位桿（20）固定第二、三層承盤；最后通過控制電機（6）旋轉轉軸框架（19）和第一層承盤，使第一層承盤的任一圓孔（18）對準升降桿（3），并通過調節第一定位桿（11）固定第一層承盤；

步驟2：控制使升降桿（3）向上頂起第一層承盤上的承臺（8）、試樣（9），然后進行單軸或流變試驗；

步驟3：當試樣（9）破壞后，降下升降桿（3），使承臺（8）歸位，然后調節第一定位桿（11），并通過控制電機(6)調節第一層承盤，對第二個試樣按步驟2進行單軸或流變試驗，以此類推，直到第一層承盤上的試樣全部做完；

步驟4：當第一層承盤上的試樣做完之后，先調整第一定位桿（11）并通過控制電機（6）使第一層承盤的開口（17）對準升降桿（3），然后通過第一定位桿（11）固定第一層承盤；再調整第二定位桿（20）釋放第二層承盤，通過控制電機(6)使第二層承盤的任一圓孔（18）對準升降桿（3），最后通過第一定位桿（11）固定第一、二層承盤；

步驟5：參照步驟2、步驟3，對第二層承盤上的試樣分別進行試驗；

步驟6：當第二層承盤上的試樣做完之后，分別調節第一定位桿（11）和第二定位桿（20），使第二層承盤的開口(17)和第一層承盤的任一圓孔（18）對準升降桿（3），并用第一定位桿（11）和第二定位桿（20）分別固定第一、二層承盤和第三層承盤；

步驟7：參照步驟2、步驟3，對第三層承盤上的試樣分別進行試驗。