[發(fā)明專利]噴霧設(shè)備及霧氣供應(yīng)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510735521.6 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106594786A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李文智;孫國(guó)軒;孫國(guó)彰;王彬權(quán);趙長(zhǎng)虹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏邦科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | F23L7/00 | 分類號(hào): | F23L7/00 |
| 代理公司: | 北京中譽(yù)威圣知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11279 | 代理人: | 王正茂,叢芳 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣高雄市楠梓*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴霧 設(shè)備 霧氣 供應(yīng) 方法 | ||
1.一種噴霧設(shè)備,適用于連接燃燒室的管路,其特征在于,所述噴霧設(shè)備包含:
負(fù)壓產(chǎn)生器,其具有第一通道、第二通道、第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口以及排氣口,其中所述第一通道穿設(shè)于所述第二通道中,所述第一進(jìn)氣口連通所述第一通道,所述第二進(jìn)氣口連通所述第二通道,且所述排氣口連通所述管路、所述第一通道以及所述第二通道;
正壓氣體供應(yīng)裝置,其連接所述第一進(jìn)氣口,且所述正壓氣體供應(yīng)裝置配置以提供壓縮氣體從所述第一進(jìn)氣口進(jìn)入所述第一通道中;以及
造霧裝置,其配置以提供霧氣從所述第二進(jìn)氣口進(jìn)入所述第二通道中,其中所述造霧裝置包含:
本體,其具有開(kāi)口及容置空間,其中所述容置空間適用于容置液體;
造霧架,其設(shè)置在所述本體中,且所述造霧架包含承載部以及至少一個(gè)造霧件,且所述造霧件設(shè)置在所述承載部上;
控制裝置,其電性連接所述至少一個(gè)造霧件;以及
蓋體,其蓋設(shè)在所述開(kāi)口上,其中所述蓋體上設(shè)有出霧口,且所述出霧口連通所述第二進(jìn)氣口。
2.如權(quán)利要求1所述的噴霧設(shè)備,其特征在于,所述至少一個(gè)造霧件包含:
座體,所述座體的底部具有固定柱,且所述承載部上設(shè)有固定孔,所述固定柱對(duì)應(yīng)插設(shè)在所述固定孔中;
棉條,所述棉條的一部分設(shè)置在所述座體上,另一部分凸伸至所述容置空間中;以及
震蕩片,其設(shè)置在所述座體上,且所述震蕩片接觸所述棉條。
3.如權(quán)利要求1所述的噴霧設(shè)備,其特征在于,所述第一進(jìn)氣口的截面積大于所述第一通道的截面積。
4.如權(quán)利要求1所述的噴霧設(shè)備,其特征在于,所述噴霧設(shè)備還包含噴嘴,其設(shè)置在所述排氣口上,并且連通所述管路,其中所述噴嘴具有混合空間。
5.如權(quán)利要求1所述的噴霧設(shè)備,其特征在于,所述噴霧設(shè)備還包含調(diào)壓閥,其連接所述正壓氣體供應(yīng)裝置以及所述負(fù)壓產(chǎn)生器。
6.一種霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述霧氣供應(yīng)方法包含:
將噴霧設(shè)備連接至燃燒室的管路,其中所述噴霧設(shè)備包含:
負(fù)壓產(chǎn)生器,其具有第一通道、第二通道、第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口以及排氣口,其中所述第一通道穿設(shè)于所述第二通道中,所述第一進(jìn)氣口連通所述第一通道,所述第二進(jìn)氣口連通所述第二通道,且所述排氣口連通所述管路、第一通道以及所述第二通道;
正壓氣體供應(yīng)裝置,其連接所述第一進(jìn)氣口;以及
造霧裝置,其具有出霧口,所述出霧口連通所述第二進(jìn)氣口;
利用所述正壓氣體供應(yīng)裝置產(chǎn)生壓縮氣體,并使所述壓縮氣體從所述第一進(jìn)氣口進(jìn)入所述第一通道中,以在所述第二通道形成負(fù)壓;以及
利用所述負(fù)壓將所述造霧裝置產(chǎn)生的霧氣從所述第二進(jìn)氣口吸入所述第二通道中再進(jìn)入所述管路。
7.如權(quán)利要求6所述的霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述造霧裝置包含:
本體,其具有開(kāi)口及容置空間,其中所述容置空間適用于容置液體;
造霧架,其設(shè)置在所述本體中,且所述造霧架包含承載部以及至少一個(gè)造霧件,且所述造霧件設(shè)置在所述承載部上;
控制裝置,其電性連接所述至少一個(gè)造霧件;以及
蓋體,其蓋設(shè)在所述開(kāi)口上,其中所述出霧口設(shè)置在所述蓋體上,且所述出霧口連通所述第二進(jìn)氣口。
8.如權(quán)利要求7所述的霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述至少一個(gè)造霧件包含:
座體,所述座體底部具有固定柱,且所述承載部上設(shè)有固定孔,所述固定柱對(duì)應(yīng)插設(shè)在所述固定孔中;
棉條,所述棉條的一部分設(shè)置在所述座體上,另一部分凸伸至所述容置空間中;以及
震蕩片,其設(shè)置在所述座體上,且所述震蕩片接觸所述棉條。
9.如權(quán)利要求6所述的霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述第一進(jìn)氣口的截面積大于所述第一通道的截面積。
10.如權(quán)利要求6所述的霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述噴霧設(shè)備還包含噴嘴,所述噴嘴設(shè)置在所述排氣口上且連通所述管路,其中所述噴嘴具有混合空間。
11.如權(quán)利要求6所述的霧氣供應(yīng)方法,其特征在于,所述噴霧設(shè)備還包含調(diào)壓閥,其連接所述正壓氣體供應(yīng)裝置以及所述負(fù)壓產(chǎn)生器。
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